[發明專利]曝光裝置以及物品的制造方法

在審

• 申請號: 201910902159.5
• 申請日: 2019-09-24
• 公開（公告）號: CN110967935A
• 公開（公告）日: 2020-04-07
• 發明（設計）人: 中島猛;關美津留;遠藤淳生
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 許海蘭

1.一種曝光裝置，具有將掩模的圖案投影于基板的投影光學系統，所述曝光裝置的特征在于，

所述投影光學系統包括：

第一光闌，為規定第一尺寸的開口徑的固定光闌；以及

第二光闌，包括多個遮光板，該第二光闌規定比所述第一尺寸小的第二尺寸的開口徑，

所述投影光學系統的光瞳面為曲面形狀，所述第一光闌以及所述第二光闌分別配置于所述光瞳面或者所述光瞳面的近旁。

2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述第一光闌以及所述第二光闌并排配置于所述投影光學系統的光軸方向上。

3.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

構成所述第二光闌的多個遮光板在與所述投影光學系統的光軸垂直的平面內移動。

4.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

還具有支承部件，所述支承部件支承所述第一光闌以及所述第二光闌。

5.根據權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，

構成所述第一光闌的多個遮光板固定于所述支承部件。

6.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

在將所述投影光學系統的數值孔徑設為第一數值孔徑來將所述圖案投影于所述基板時，在所述投影光學系統的光路中配置所述第一光闌，

在將所述投影光學系統的數值孔徑設為比所述第一數值孔徑小的第二數值孔徑而將所述圖案投影于所述基板時，在所述投影光學系統的光路中配置所述第二光闌。

7.根據權利要求6所述的曝光裝置，其特征在于，

還具有驅動機構，在使所述投影光學系統的數值孔徑在所述第一數值孔徑與所述第二數值孔徑之間變化時，所述驅動機構使構成所述第二光闌的多個遮光板在離開或者接近所述投影光學系統的光軸的方向上移動。

8.根據權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，

通過所述驅動機構，構成所述第二光闌的多個遮光板在相互不同的方向上移動。

9.根據權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，

所述第二光闌包括并排配置于由所述第二光闌規定的開口徑的徑向上的多個遮光板。

10.根據權利要求7所述的曝光裝置，其特征在于，

構成所述第二光闌的多個遮光板包括驅動銷，所述驅動銷分別與固定銷和所述驅動機構結合，

利用所述驅動機構相對于所述固定銷旋轉驅動所述驅動銷，從而構成所述第二光闌的多個遮光板移動。

11.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

所述投影光學系統包括具有將光路彎曲的第一反射面以及第二反射面的鏡、凹面鏡以及凸面鏡。

12.根據權利要求11所述的曝光裝置，其特征在于，

所述凹面鏡包括第一凹面和第二凹面，

沿透射了所述掩模的光的行進方向依次配置有所述第一反射面、所述第一凹面、所述凸面鏡、所述第二凹面、所述第二反射面。

13.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，

由所述第一光闌規定的開口以及由所述第二光闌規定的開口為正圓。

14.一種物品的制造方法，其特征在于，包括：

使用權利要求1至13中的任意一項所述的曝光裝置將基板曝光的工序；以及

將通過所述工序曝光的所述基板顯影的工序。