[發(fā)明專利]一種組合式真空鍍膜系統(tǒng)的生產(chǎn)方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910897416.0
• 申請(qǐng)日: 2019-09-23
• 公開（公告）號(hào): CN110453178A
• 公開（公告）日: 2019-11-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張海富
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇坤載新材料科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/22
• 分類號(hào): C23C14/22;C23C14/26;C23C14/30;C23C14/34
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.在根據(jù)集成共涂覆真空系統(tǒng)的涂覆方法的用于真空涂覆的集成真空涂覆設(shè)備中,該表面在拋光后經(jīng)過電解處理，并在腔室的外壁上具有一個(gè)或多個(gè)備用端口，并通過O形圈密封；被拉入箱門腔并被驅(qū)動(dòng)旋轉(zhuǎn)和噴射運(yùn)動(dòng)，包括電動(dòng)機(jī)，符合IS0的法蘭，波紋管，手柄，齒輪，行程計(jì)和目標(biāo)支架，以保持目標(biāo)支架的恒定溫度分布一種機(jī)械手，其具有插入有冷卻管的冷卻套，一種底板，在IS0標(biāo)準(zhǔn)法蘭上裝有兩個(gè)或多個(gè)信號(hào)源，并具有備用端口，以便以后可以根據(jù)用戶的選擇輕松更換；和包括；安裝在腔室部分內(nèi)壁上的輻射懸架，該源的特征在于，來(lái)自由濺射源，蒸發(fā)源，熱源，電子束源，epizone電池源，可固化襯里源，離子源或激光沉積源組成的源群中的至少兩個(gè)或更多個(gè)被組合，集成式真空鍍膜單元，包含一般獨(dú)立的鍍膜單元。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述熱源，集成了通用獨(dú)立涂層設(shè)備的集成真空涂層設(shè)備，其特征在于，高壓進(jìn)給裝置配備了用于向上，向下，向左和向右位置可變調(diào)整的源夾具。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，安裝在噴槍和噴槍之間的輻射謝爾；和以及安裝在噴槍中的百葉窗，以同時(shí)或有序地操作涂層，從而可以根據(jù)用戶的意愿操作涂層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，所述靶支架，包括加熱器或水冷套，

結(jié)合有通常獨(dú)立的涂覆裝置的集成真空涂覆裝置，其特征在于，安裝了靶支架掩模。

5.根據(jù)權(quán)利要求5的方法電機(jī)軸和冷卻套軸之間的連接接頭，結(jié)合有通常獨(dú)立的涂覆裝置的集成真空涂覆裝置，其特征在于，冷卻管安裝在冷卻套軸的內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，結(jié)合了通常獨(dú)立的涂覆裝置的集成真空涂覆裝置，其特征在于，所述靶保持器軸和所述靶掩模通過電動(dòng)機(jī)單獨(dú)或同時(shí)旋轉(zhuǎn)，并且所述菜單板和冷卻軸以中空類型連接。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，還包括使冷卻軸平穩(wěn)旋轉(zhuǎn)并防止變形的軸承裝置，并且還包括在目標(biāo)罩中的齒輪和滾珠軸承裝置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其中，所述冷卻軸，集成有通常獨(dú)立的涂覆裝置的集成真空涂覆裝置，其特征在于，入口冷卻連接器和出口冷卻連接器以預(yù)定距離安裝，并且目標(biāo)保持器和面罩固定件使用磁體或蝶形螺栓安裝。