[發(fā)明專利]高純度錫

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910893030.2
• 申請(qǐng)日: 2017-03-02
• 公開（公告）號(hào): CN110565115B
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 伊森徹;竹本幸一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: JX金屬株式會(huì)社
• 主分類號(hào): C25C1/14
• 分類號(hào): C25C1/14;C25C7/04;C25C7/06
• 代理公司: 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉

1.一種高純度錫，其純度為5N（99.999質(zhì)量%）以上，且粒徑為0.5 μm以上的不溶解性殘?jiān)Ｗ佑? g中為50,000個(gè)以下，

氧的含有濃度未達(dá)5質(zhì)量ppm，并且，

所述高純度錫的制造方法包括以下步驟：

步驟1，使用硫酸酸性硫酸錫溶液作為電解液，將通過隔膜而分隔陽極陰極間的電解槽中的陽極側(cè)電解液抽出，在去除所抽出的上述電解液中的鉛或氧化物污泥后使之循環(huán)至電解槽的陰極側(cè)，并且于電解液中添加平滑劑，以原料錫為陽極進(jìn)行電解精制；

步驟2，以通過上述步驟1所獲得的一次精制電沉積錫、或?qū)⑸鲜鲆淮尉齐姵练e錫進(jìn)行加熱熔解及鑄造后的鑄造錫作為陽極，使用鹽酸酸性氯化錫溶液作為電解液，不使用平滑劑，將電解槽中的電解液抽出，在去除所抽出的上述電解液中的粒子后再次循環(huán)至電解槽中進(jìn)行電解精制；

步驟3，在還原性氣體環(huán)境下將上述步驟2中所獲得的二次精制電沉積錫進(jìn)行熔解鑄造。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純度錫，其中，粒徑為0.5 μm以上的不溶解性殘?jiān)Ｗ佑?g中為10,000個(gè)以下。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高純度錫，其中，鐵、銅、鉛及硫的含有濃度分別為0.5質(zhì)量ppm以下，且氯的含有濃度未達(dá)0.01質(zhì)量ppm。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高純度錫，其中，鐵、銅、鉛及硫的含有濃度分別為0.5質(zhì)量ppm以下，且氯的含有濃度未達(dá)0.01質(zhì)量ppm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的高純度錫，其中，銻的含有濃度為1質(zhì)量ppm以下。