[發明專利]一種采用液體噴射技術的水處理裝置

在審

• 申請號: 201910882187.5
• 申請日: 2019-09-18
• 公開（公告）號: CN110436686A
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 宋鵬;李迎澳
• 申請（專利權）人: 大連民族大學
• 主分類號: C02F9/08
• 分類號: C02F9/08;C02F1/30
• 代理公司: 大連智高專利事務所(特殊普通合伙) 21235
• 代理人: 畢進

本發明公開了一種采用液體噴射技術的水處理裝置，包括液體處理器依次通過流量計、過濾器、液體流量控制閥與蓄液池相連，所述液體流量控制閥還連接至閥門開度電子控制器的一端，所述閥門開度電子控制器的另一端與氣體流量控制閥相連，所述非平衡等離子體射流激勵器與等離子體電源相連，所述液體處理器安裝在水處理箱頂部，在水處理箱一側的上部設有通孔，該通孔與非平衡等離子體射流激勵器相連，在水處理箱一側的下部連接有檢測管路，在檢測管路上依次設有檢測口控制閥、檢測口回流泵、檢測器，所述檢測器與等離子體電源相連。采用液體霧化技術和非平衡等離子體射流技術的技術方案既能夠大幅度提高凈化效率，又能夠大幅度提高凈化流量。

技術領域

本發明涉及一種水處理裝置，具體說是一種采用液體噴射技術的水處理裝置。

背景技術

現有技術中：1.中國發明專利申請號：201010138133.7，名稱：高壓脈沖放電等離子體水處理裝置及其高頻高壓電源；2.中國發明專利申請號：201010138086.6，名稱：高壓脈沖放電等離子體水處理裝置及方法；3.中國發明專利申請號：200910022562.5，名稱：一種雙通道放電等離子體水處理裝置；4.中國實用新型專利申請號：201120213976.9，名稱：一種用于高壓放電等離子體水處理的設備；這四個水處理裝置特征都是利用待處理的污水作為大氣壓放電的電極或介質板，直接在水的表面上產生等離子體，優點是可以提高等離子體與水的有效接觸面積，缺點是水的導電率偏低，會消耗較大比例的電能，降低能效。

發明內容

針對現有技術中采用污水作為大氣壓放電的電極或介質板，其缺點是水導電率偏低，會消耗較大比例的電能，降低了能效，本申請提出一種采用液體噴射技術的水處理裝置。

為實現上述目的，本申請的技術方案為：一種采用液體噴射技術的水處理裝置，包括：液體處理器、非平衡等離子體射流激勵器、流量計、過濾器、液體流量控制閥、氣體流量控制閥、蓄液池、高壓氣瓶、閥門開度電子控制器、等離子體電源、檢測口控制閥、檢測口回流泵、檢測器和水處理箱；所述液體處理器依次通過流量計、過濾器、液體流量控制閥與蓄液池相連，所述液體流量控制閥還連接至閥門開度電子控制器的一端，所述閥門開度電子控制器的另一端與氣體流量控制閥相連，所述氣體流量控制閥位于高壓氣瓶與非平衡等離子體射流激勵器之間的管路上，所述非平衡等離子體射流激勵器與等離子體電源相連，所述液體處理器安裝在水處理箱頂部，在水處理箱一側的上部設有通孔，該通孔與非平衡等離子體射流激勵器相連，在水處理箱一側的下部連接有檢測管路，在檢測管路上依次設有檢測口控制閥、檢測口回流泵、檢測器，所述檢測器與等離子體電源相連。

進一步的，在水處理箱底部設有泄流閥。

進一步的，所述液體處理器包括液體霧化器和液體處理腔，在液體處理腔中(頂端或側面)設有液體霧化器，所述液體霧化器包括霧化器體和霧化噴孔，所述霧化器體為中空圓柱體結構，在中空圓柱體結構底部連接有霧化噴孔，所述霧化噴孔為圓直孔結構或交叉圓直孔結構或交叉縫結構；所述液體處理腔為中空結構。

進一步的，所述非平衡等離子體射流激勵器，包括高壓電極、接地電極、激勵器體，所述高壓電極位于激勵器體中，在激勵器體外壁連接有接地電極。

進一步的，所述高壓電極為圓柱狀或條狀，其材料為鎢或銅或不銹鋼。

更進一步的，所述激勵器體由聚四氟乙烯、玻璃、陶瓷絕緣材料構成。

更進一步的，所述蓄液池為一水槽結構，用來儲存待凈化液體。