[發明專利]一種采用液體噴射技術的水處理裝置

在審

• 申請號: 201910882187.5
• 申請日: 2019-09-18
• 公開（公告）號: CN110436686A
• 公開（公告）日: 2019-11-12
• 發明（設計）人: 宋鵬;李迎澳
• 申請（專利權）人: 大連民族大學
• 主分類號: C02F9/08
• 分類號: C02F9/08;C02F1/30
• 代理公司: 大連智高專利事務所(特殊普通合伙) 21235
• 代理人: 畢進

1.一種采用液體噴射技術的水處理裝置，其特征在于，包括：液體處理器、非平衡等離子體射流激勵器、流量計、過濾器、液體流量控制閥、氣體流量控制閥、蓄液池、高壓氣瓶、閥門開度電子控制器、等離子體電源、檢測口控制閥、檢測口回流泵、檢測器和水處理箱；所述液體處理器依次通過流量計、過濾器、液體流量控制閥與蓄液池相連，所述液體流量控制閥還連接至閥門開度電子控制器的一端，所述閥門開度電子控制器的另一端與氣體流量控制閥相連，所述氣體流量控制閥位于高壓氣瓶與非平衡等離子體射流激勵器之間的管路上，所述非平衡等離子體射流激勵器與等離子體電源相連，所述液體處理器安裝在水處理箱頂部，在水處理箱一側的上部設有通孔，該通孔與非平衡等離子體射流激勵器相連，在水處理箱一側的下部連接有檢測管路，在檢測管路上依次設有檢測口控制閥、檢測口回流泵、檢測器，所述檢測器與等離子體電源相連。

2.根據權利要求1所述一種采用液體噴射技術的水處理裝置，其特征在于，在水處理箱底部設有泄流閥。

3.根據權利要求1所述一種采用液體噴射技術的水處理裝置，其特征在于，所述液體處理器包括液體霧化器和液體處理腔，在液體處理腔中設有液體霧化器，所述液體霧化器包括霧化器體和霧化噴孔，所述霧化器體為中空圓柱體結構，在中空圓柱體結構底部連接有霧化噴孔，所述霧化噴孔為圓直孔結構或交叉圓直孔結構或交叉縫結構；所述液體處理腔為中空結構。

4.根據權利要求1所述一種采用液體噴射技術的水處理裝置，其特征在于，所述非平衡等離子體射流激勵器，包括高壓電極、接地電極、激勵器體，所述高壓電極位于激勵器體中，在激勵器體外壁連接有接地電極。

5.根據權利要求4所述一種采用液體噴射技術的水處理裝置，其特征在于，所述高壓電極為圓柱狀或條狀，其材料為鎢或銅或不銹鋼。

6.根據權利要求4所述一種采用液體噴射技術的水處理裝置，其特征在于，所述激勵器體由聚四氟乙烯、玻璃、陶瓷絕緣材料構成。

7.根據權利要求1所述一種采用液體噴射技術的水處理裝置，其特征在于，所述蓄液池為一水槽結構，用來儲存待凈化液體。