[發(fā)明專(zhuān)利]一種等離子體處理裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910880951.5 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112530775A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳磊;梁潔;涂樂(lè)義 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | H01J37/32 | 分類(lèi)號(hào): | H01J37/32 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 潘穎 |
| 地址: | 201201 上海市浦東新*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 等離子體 處理 裝置 | ||
1.一種等離子體處理裝置,其特征在于,位于所述等離子體處理裝置的反應(yīng)腔內(nèi)包括:
相對(duì)設(shè)置的氣體噴淋頭和靜電吸盤(pán);
以及,環(huán)繞所述氣體噴淋頭設(shè)置的上接地環(huán),所述上接地環(huán)沿環(huán)形方向分割為多個(gè)子接地區(qū);
其中,每一所述子接地區(qū)各自電連接一位于所述反應(yīng)腔外的阻抗可調(diào)裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述阻抗可調(diào)裝置為可變電容調(diào)節(jié)裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述可變電容調(diào)節(jié)裝置包括固定極板和可動(dòng)極板,其中,所述子接地區(qū)電連接所述固定極板。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述固定極板與所述可動(dòng)極板相對(duì)設(shè)置方向,與所述氣體噴淋頭和所述靜電吸盤(pán)相對(duì)設(shè)置方向垂直。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述可變電容調(diào)節(jié)裝置包括與所述可動(dòng)極板相連的傳動(dòng)裝置;
其中,所述固定極板與所述可動(dòng)極板之間間距固定,所述傳動(dòng)裝置帶動(dòng)所述可動(dòng)極板在垂直所述固定極板和所述可動(dòng)極板相對(duì)方向上移動(dòng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述等離子體處理裝置還包括固定于所述反應(yīng)腔外的防護(hù)罩,其中,所述固定極板與所述可動(dòng)極板位于所述防護(hù)罩內(nèi)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述傳動(dòng)裝置為馬達(dá)傳動(dòng)裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體處理裝置,其特征在于,所述傳動(dòng)裝置為氣動(dòng)傳動(dòng)裝置。
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