[發(fā)明專利]一種用于光刻設(shè)備的非接觸式超聲清洗裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910879546.1
• 申請(qǐng)日: 2019-09-18
• 公開（公告）號(hào): CN110560424A
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 岳力挽;顧大公;毛智彪;馬瀟;許從應(yīng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧波南大光電材料有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/12
• 分類號(hào): B08B3/12;B08B5/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 31333 上海微策知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 李萍

本發(fā)明涉及機(jī)械設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及到一種用于光刻設(shè)備的非接觸式超聲清洗裝置。該清洗裝置包括清洗裝置、支架、導(dǎo)軌和氣浮裝置；所述清洗裝置中央設(shè)置有清洗液循環(huán)裝置；所述清洗液循環(huán)裝置上設(shè)置有中心位置的出水口和設(shè)置在外圍的吸水口；所述出水口周圍設(shè)置有超聲發(fā)生器；所述清洗裝置邊緣設(shè)置有所述氣浮裝置；所述導(dǎo)軌設(shè)置在所述支架上；所述清洗裝置通過可移動(dòng)掛片與所述導(dǎo)軌連接。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及機(jī)械設(shè)備領(lǐng)域，具體涉及到一種用于光刻設(shè)備的非接觸式超聲清洗裝置。

背景技術(shù)

光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上(通常到所述襯底的目標(biāo)位置上)的機(jī)器。而這種光刻機(jī)等設(shè)備(如浸沒式光刻機(jī))的投影隔水罩，以及硅片晶元平臺(tái)等經(jīng)常與帶有光刻膠的硅片接觸，帶來投影隔水罩臟污，硅片臺(tái)上有顆粒物導(dǎo)致硅片畸變等問題，導(dǎo)致高精度設(shè)備的作業(yè)精度、硅片的處理工藝等受到較嚴(yán)重的影響。因此需要對(duì)該經(jīng)常與光刻膠等接觸的，容易被污染的特殊部件進(jìn)行清洗。現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)此類設(shè)備的清洗主要是采用大理石打磨或者整個(gè)部件浸泡清洗，費(fèi)時(shí)費(fèi)力，效率比較低而且由于大理石打磨采用的是接觸式清理，因而存在損壞部件的風(fēng)險(xiǎn)。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述技術(shù)問題，本發(fā)明的第一方面提供了一種非接觸式超聲清洗裝置，包括清洗裝置、支架、導(dǎo)軌和氣浮裝置；所述清洗裝置中央設(shè)置有清洗液循環(huán)裝置；所述清洗液循環(huán)裝置上設(shè)置有中心位置的出水口和設(shè)置在外圍的吸水口；所述出水口周圍設(shè)置有超聲發(fā)生器；所述清洗裝置邊緣設(shè)置有所述氣浮裝置；所述導(dǎo)軌設(shè)置在所述支架上；所述清洗裝置通過可移動(dòng)掛片與所述導(dǎo)軌連接。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述非接觸式超聲清洗裝置還設(shè)置有氣體循環(huán)裝置。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述氣體循環(huán)裝置設(shè)置在所述清洗液循環(huán)裝置的吸水口與氣浮裝置之間。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述氣體循環(huán)裝置上設(shè)置有向內(nèi)方向的進(jìn)氣口和豎直方向的出氣口。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述清洗裝置上設(shè)置有砝碼。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述導(dǎo)軌通過旋轉(zhuǎn)支柱與所述支架連接。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述可移動(dòng)掛片通過移動(dòng)裝置與所述導(dǎo)軌連接。

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述導(dǎo)軌包括橫向?qū)к壓涂v向?qū)к墸凰鰴M向?qū)к壒潭ㄔO(shè)置在所述支架上；所述縱向?qū)к壨ㄟ^移動(dòng)裝置設(shè)置在所述橫向?qū)к壣稀?/p>

作為一種優(yōu)選的技術(shù)方案，所述移動(dòng)裝置為卡槽式移動(dòng)裝置、滑動(dòng)式移動(dòng)裝置或滾動(dòng)式移動(dòng)裝置。

本發(fā)明的第二個(gè)方面提供了如上所述非接觸式超聲清洗裝置在光刻設(shè)備清洗工藝中的應(yīng)用。

有益效果：本發(fā)明中通過對(duì)清洗裝置的清洗液循環(huán)裝置、氣浮裝置、氣體循環(huán)裝置等的巧妙設(shè)計(jì)，利用清洗液循環(huán)裝置、超聲發(fā)生器、導(dǎo)軌和支架，一方面避開易泄露清洗液的凹點(diǎn)，另一方面可以將整個(gè)光刻設(shè)備等高精度設(shè)備的易沾污部件表面全部充分清洗的同時(shí)，利用氣浮裝置和砝碼有效調(diào)控清洗裝置與被清洗物之間的距離，避免清洗裝置與被清洗物表面的直接接觸，避免對(duì)被清洗物造成二次污染或損壞。同時(shí)，巧妙設(shè)置氣體循環(huán)裝置，在清洗裝置和被清洗物表面形成氣刀，避免清洗液泄漏到硅片臺(tái)上，造成浪費(fèi)和進(jìn)一步污染問題。

附圖說明

圖1是本發(fā)明中非接觸式超聲清洗裝置的清洗裝置結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明實(shí)施例1中的非接觸式超聲清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明實(shí)施例2和3中的非接觸式超聲清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。