[發明專利]一種用于光刻設備的非接觸式超聲清洗裝置

在審

• 申請號: 201910879546.1
• 申請日: 2019-09-18
• 公開（公告）號: CN110560424A
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發明（設計）人: 岳力挽;顧大公;毛智彪;馬瀟;許從應
• 申請（專利權）人: 寧波南大光電材料有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B5/02;B08B13/00;H01L21/67
• 代理公司: 31333 上海微策知識產權代理事務所(普通合伙)
• 代理人: 李萍

1.一種非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，包括清洗裝置、支架、導軌和氣浮裝置；所述清洗裝置中央設置有清洗液循環裝置；所述清洗液循環裝置上設置有中心位置的出水口和設置在外圍的吸水口；所述出水口周圍設置有超聲發生器；所述清洗裝置邊緣設置有所述氣浮裝置；所述導軌設置在所述支架上；所述清洗裝置通過可移動掛片與所述導軌連接。

2.如權利要求1所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述非接觸式超聲清洗裝置還設置有氣體循環裝置。

3.如權利要求2所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述氣體循環裝置設置在所述清洗液循環裝置的吸水口與氣浮裝置之間。

4.如權利要求3所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述氣體循環裝置上設置有向內方向的進氣口和豎直方向的出氣口。

5.如權利要求1所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置上設置有砝碼。

6.如權利要求1所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述導軌通過旋轉支柱與所述支架連接。

7.如權利要求6所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述可移動掛片通過移動裝置與所述導軌連接。

8.如權利要求1所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述導軌包括橫向導軌和縱向導軌；所述橫向導軌固定設置在所述支架上；所述縱向導軌通過移動裝置設置在所述橫向導軌上。

9.如權利要求7或8所述的非接觸式超聲清洗裝置，其特征在于，所述移動裝置為卡槽式移動裝置、滑動式移動裝置或滾動式移動裝置。

10.如權利要求1～9任意一項所述的非接觸式超聲清洗裝置在光刻設備清洗工藝中的應用。