[發(fā)明專利]一種適用于高壓功率器件模塊封裝的DBC結(jié)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910879279.8 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110491857A | 公開(公告)日: | 2019-11-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚金才;陳宇;朱超群 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳愛仕特科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L23/498 | 分類號(hào): | H01L23/498 |
| 代理公司: | 44632 深圳倚智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 霍如肖<國際申請(qǐng)>=<國際公布>=<進(jìn)入 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市福田區(qū)福*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 銅層 陶瓷絕緣層 模塊封裝 芯片 高壓功率器件 絕緣介質(zhì)層 不良產(chǎn)品 封裝工藝 高壓測(cè)試 工藝過程 芯片位置 偏移 成品率 耐高溫 下銅層 凹面 良率 貼片 封裝 焊接 發(fā)現(xiàn) | ||
本發(fā)明公開了一種適用于高壓功率器件模塊封裝的DBC結(jié)構(gòu),包括中陶瓷絕緣層,所述中陶瓷絕緣層的兩側(cè)分別設(shè)置有上銅層和下銅層,所述上銅層上設(shè)置有耐高溫絕緣介質(zhì)層。本發(fā)明在進(jìn)行芯片與DBC焊接時(shí),芯片被固定在DBC上銅層的凹面內(nèi)部,芯片位置將不再會(huì)出現(xiàn)偏移,提高芯片貼片的良率以及整個(gè)工藝過程的成品率以及最終產(chǎn)品的可靠性,采用本DBC結(jié)構(gòu)在進(jìn)行模塊封裝,在封裝工藝后都可以進(jìn)行高壓測(cè)試,提前發(fā)現(xiàn)不良產(chǎn)品,提前處理,降低封裝成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種適用于高壓功率器件模塊封裝的DBC結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
DBC(銅直接鍵合)作為功率器件模塊封裝的關(guān)鍵配件,通常由上銅層、中陶瓷絕緣層及下銅層組成,其主要作用包括實(shí)現(xiàn)多芯片以不同拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)互聯(lián)、實(shí)現(xiàn)器件的電氣隔離、作為器件的主要散熱通道等。其中,DBC下銅層通常通過焊料被焊接在模塊的底板上,主要用于實(shí)現(xiàn)DBC與底板間的連接。上銅層通常通過焊料與功率器件芯片背面金屬相連,實(shí)現(xiàn)多芯片以不同拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)互聯(lián)。
因?yàn)樾酒趁媾cDBC上銅層連接的面為一平面,現(xiàn)有DBC上銅層表面與芯片接觸區(qū)域及周邊(器件的電氣隔離以外)通常被設(shè)計(jì)制造為一個(gè)平面,具體如圖1所示。
在模塊封裝的過程的芯片與DBC焊接時(shí),由于DBC上銅層表面平滑,經(jīng)常會(huì)出現(xiàn)芯片偏移預(yù)定位置,影響后續(xù)工藝過程,嚴(yán)重的甚至?xí)?dǎo)致產(chǎn)品失效,抬高了產(chǎn)品失效率,增加封裝成本。
隨著新材料以及新的芯片技術(shù)發(fā)展,尤其SiC材料以及工藝技術(shù)的發(fā)展,芯片耐壓在提高,相同規(guī)格的芯片尺寸在減小,相同耐壓的SiC功率器件的終端尺寸遠(yuǎn)小于Si器件,這就給器件模塊封裝過程中的測(cè)試帶來一定的困難。因?yàn)镈BC上銅層表面與芯片接觸區(qū)域及周邊(器件的電氣隔離以外)為一個(gè)平面,當(dāng)與芯片背面焊接后進(jìn)行高壓測(cè)試時(shí),在芯片周邊將產(chǎn)生高壓電弧,又因?yàn)樾酒K端尺寸小,很容易通過芯片周邊使芯片高壓擊穿,從而損壞芯片。因此,目前的高壓器件,尤其是SiC高壓功率器件,在模塊封裝過程中,直到灌膠后才進(jìn)行高壓測(cè)試,在灌膠前都只是進(jìn)行高壓以外的測(cè)試,即使器件耐壓出現(xiàn)問題也無法檢測(cè),使得封裝成本大為增加。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種適用于高壓功率器件模塊封裝的DBC結(jié)構(gòu),在進(jìn)行芯片與DBC焊接時(shí),芯片被固定在DBC上銅層的凹面內(nèi)部,芯片位置將不再會(huì)出現(xiàn)偏移,提高芯片貼片的良率以及整個(gè)工藝過程的成品率以及最終產(chǎn)品的可靠性,采用本DBC結(jié)構(gòu)在進(jìn)行模塊封裝,在封裝工藝后都可以進(jìn)行高壓測(cè)試,提前發(fā)現(xiàn)不良產(chǎn)品,提前處理,降低封裝成本,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:
一種適用于高壓功率器件模塊封裝的DBC結(jié)構(gòu),包括中陶瓷絕緣層,所述中陶瓷絕緣層的兩側(cè)分別設(shè)置有上銅層和下銅層,所述上銅層上設(shè)置有耐高溫絕緣介質(zhì)層。
優(yōu)選的,所述上銅層的焊面上設(shè)置有至少一個(gè)用于放置芯片的凹面,所述耐高溫絕緣介質(zhì)層設(shè)置在所述凹面四周側(cè)面上。
優(yōu)選的,所述凹面的深度比焊片厚度與芯片厚度之和小1~2㎜。
優(yōu)選的,所述凹面的形狀與芯片的形狀相同,所述凹面的尺寸比芯片的尺寸大0.5~1㎜。
優(yōu)選的,所述耐高溫絕緣介質(zhì)層固定粘結(jié)在在所述上銅層焊面上,所述耐高溫絕緣介質(zhì)層設(shè)置有至少一個(gè),所述耐高溫絕緣介質(zhì)層上設(shè)置有焊孔。
優(yōu)選的,所述焊孔與所述上銅層相連通。
優(yōu)選的,所述焊孔的深度比焊片厚度與芯片厚度之和小1~2㎜。
優(yōu)選的,所述焊孔的形狀與芯片的形狀相同,所述焊孔的尺寸比芯片的尺寸大0.5~1㎜。
優(yōu)選的,所述耐高溫絕緣介質(zhì)層的耐壓值高于芯片的耐壓值。
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