[發(fā)明專利]一種改進(jìn)的OPC方法和掩膜圖形的制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910872794.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-16 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112506000A | 公開(公告)日: | 2021-03-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G03F1/36 | 分類號(hào): | G03F1/36 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 虞凌霄 |
| 地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 改進(jìn) opc 方法 圖形 制作方法 | ||
1.一種改進(jìn)的OPC方法,包括:
獲取原始版圖圖形;
使用標(biāo)準(zhǔn)OPC程式修正所述原始版圖圖形獲得修正版圖圖形;
獲取所述修正版圖圖形的工藝窗口;
根據(jù)所述工藝窗口,將所述修正版圖圖形劃分為參考版圖圖形和缺陷版圖圖形;
使用特殊OPC程式修正所述缺陷版圖圖形,使所述缺陷版圖圖形的工藝窗口滿足要求。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,獲取所述修正版圖圖形的工藝窗口的步驟,包括:
獲取所述修正版圖圖形在焦點(diǎn)處的正常圖形和離焦時(shí)的離焦圖形的尺寸;
獲取所述正常圖形和所述離焦圖形的尺寸差異值。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,所述修正版圖圖形劃分為參考版圖圖形和缺陷版圖圖形的步驟,包括:
預(yù)設(shè)一工藝窗口閾值;
所述工藝窗口不小于所述工藝窗口閾值的所述修正版圖圖形為參考版圖圖形;
所述工藝窗口小于所述工藝窗口閾值的所述修正版圖圖形為缺陷版圖圖形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,還包括:
對(duì)所述缺陷版圖圖形進(jìn)行晶圓驗(yàn)證,獲得真實(shí)缺陷版圖圖形;
使用特殊OPC程式修正所述真實(shí)缺陷版圖圖形,使所述真實(shí)缺陷版圖圖形的工藝窗口滿足要求。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,所述使用特殊OPC程式修正所述缺陷版圖圖形,使所述缺陷版圖圖形的工藝窗口滿足要求的步驟,包括:
使用特殊OPC程式修正所述缺陷版圖圖形得到特殊版圖圖形;
獲取所述特殊版圖圖形的工藝窗口;
檢查所述工藝窗口是否滿足要求,若否,則重復(fù)以上步驟直至工藝窗口滿足要求。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,所述使用特殊OPC程式修正所述缺陷版圖圖形,使所述缺陷版圖圖形的工藝窗口滿足要求的步驟,還包括:
獲取所述特殊版圖圖形的工藝窗口;
對(duì)所述特殊版圖圖形的工藝窗口進(jìn)行晶圓驗(yàn)證,獲得所述特殊版圖圖形的真實(shí)工藝窗口;
檢查所述真實(shí)工藝窗口是否滿足要求,若否,則重復(fù)以上步驟直至真實(shí)工藝窗口滿足要求。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,所述使用特殊OPC程式修正所述缺陷版圖圖形的步驟,包括:
依據(jù)OPC環(huán)境和所述缺陷版圖圖形的種類,選擇相應(yīng)的特殊OPC程式。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,所述選擇相應(yīng)的特殊OPC程式的步驟,還包括:
所述缺陷版圖圖形位于當(dāng)層版圖中;
依據(jù)所述當(dāng)層版圖的上層版圖圖形和/或下層版圖圖形,選擇相應(yīng)的特殊OPC程式。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,包括:
所述缺陷版圖圖形包括對(duì)齊分布的多孔狀結(jié)構(gòu)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于:
所述對(duì)齊分布的多孔狀結(jié)構(gòu)包括單行多孔狀結(jié)構(gòu)或多行多孔狀結(jié)構(gòu)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,所述特殊OPC程式包括單方向擴(kuò)展OPC方法,所述單方向擴(kuò)展OPC方法為對(duì)圖形沿設(shè)定方向的尺寸按設(shè)定比例放大或縮小:
采用所述單方向擴(kuò)展OPC方法對(duì)所述單行多孔狀結(jié)構(gòu)進(jìn)行修正。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述改進(jìn)的OPC方法,其特征在于,所述特殊OPC程式包括花生形改進(jìn)OPC方法,所述花生形改進(jìn)OPC方法包括:
在圖形的邊角區(qū)域,將圖形的邊緣向遠(yuǎn)離圖形中心的方向移動(dòng);
在圖形的非邊角區(qū)域,將圖形的邊緣向靠近圖形中心的方向移動(dòng)。
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- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備
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