[發(fā)明專利]一種印制電路板電路吸收或發(fā)射功率降低方法及預測方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910870598.2
• 申請日: 2019-09-16
• 公開（公告）號: CN110602873B
• 公開（公告）日: 2020-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 謝海燕
• 申請（專利權(quán)）人: 西北核技術(shù)研究院
• 主分類號: H05K1/02
• 分類號: H05K1/02
• 代理公司: 西安智邦專利商標代理有限公司 61211
• 代理人: 汪海艷

1.一種印制電路板電路吸收或發(fā)射功率降低方法，其特征在于，包括步驟A和/或步驟B：

A、減小印制電路板上微帶線的高度，使印制電路板電路的吸收或發(fā)射功率降低(h₀/h)²倍，其中h₀和h分別為調(diào)整前后印制電路板上微帶線的高度；同時減小印制線的厚度和寬度均為原來的h/h₀倍；

B、增大印制電路板介質(zhì)層的介電常數(shù)；同時減小印制線的厚度和寬度；

步驟B中印制線的寬度和厚度調(diào)整采用公式(1)、(2)、(3)進行計算：

式中：ε_r為介質(zhì)層材料的相對介電常數(shù)，ε_r,eff為介質(zhì)板的有效相對介電常數(shù)，h為印制電路板微帶線的高度，w_eff為考慮印制線厚度影響的有效寬度，w和t分別為印制線的寬度和厚度。

2.一種印制電路板電路吸收或發(fā)射功率預測方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、采用公式(4)計算得到曲線P′(f)；

其中，E為外部平面波的電場幅值，h為印制電路板微帶線的高度，ε_r和ε_r,eff分別為介質(zhì)板的相對介電常數(shù)和有效相對介電常數(shù)，R為印制電路板上某一匹配電路的電阻，其中c為電磁波在真空中的傳播速度，f為頻率，L為印制電路板中微帶線的長度；

步驟2、根據(jù)步驟1中構(gòu)建的曲線P′(f)制定平均吸收功率曲線；

步驟3、根據(jù)步驟2中構(gòu)建的平均吸收功率曲線制定平均吸收功率區(qū)間；所述步驟2具體為：

步驟2.1、找到曲線P′(f)的第一極大值點M及對應頻率f_M；

步驟2.2、構(gòu)建吸收功率曲線P(f)在f≥fM的部分為經(jīng)過M點與頻率坐標軸平行的一條直線；

步驟2.3、構(gòu)建吸收功率曲線P(f)在f＜f_M的部分為曲線P′(f)在f＜f_M對應的部分。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的印制電路板電路吸收或發(fā)射功率預測方法，其特征在于，所述步驟3制定平均吸收功率區(qū)間為P(f)±3dB。