[發(fā)明專(zhuān)利]襯底處理設(shè)備、襯底處理模塊和半導(dǎo)體器件制造方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910869816.0
• 申請(qǐng)日: 2019-09-16
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111383949A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金敬勛;文丁一;李衡周;宣鐘宇
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 三星電子株式會(huì)社
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67;H01J37/32
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 趙南;張帆

1.一種襯底處理模塊，包括：

處理腔室，其被配置為對(duì)襯底執(zhí)行處理工藝；

傳送腔室，其設(shè)置在所述處理腔室的第一側(cè)上，所述襯底在所述處理腔室和所述傳送腔室之間被傳送；

光學(xué)發(fā)射光譜系統(tǒng)，其設(shè)置在所述處理腔室的第二側(cè)上，并被配置為監(jiān)視所述處理腔室；和

參考光源，其設(shè)置在所述傳送腔室中，并被配置為發(fā)射參考光以對(duì)所述光學(xué)發(fā)射光譜系統(tǒng)進(jìn)行校準(zhǔn)。

2.如權(quán)利要求1所述的襯底處理模塊，其中，所述參考光源包括：

光源，其被配置為發(fā)射所述參考光；和

主體，其支撐所述光源，并且

其中，所述主體設(shè)置在所述傳送腔室中。

3.如權(quán)利要求1所述的襯底處理模塊，其中，所述傳送腔室包括傳送機(jī)器人，所述傳送機(jī)器人被配置為傳送所述襯底，并且

其中，所述參考光源與所述傳送機(jī)器人接合。

4.如權(quán)利要求3所述的襯底處理模塊，其中，所述傳送機(jī)器人還包括傳送手，所述傳送手支撐所述襯底并且被配置為將所述襯底傳送到所述處理腔室，并且

其中，所述參考光源與所述傳送手接合。

5.如權(quán)利要求1所述的襯底處理模塊，還包括設(shè)置在所述傳送腔室中的校準(zhǔn)機(jī)器人，其中，所述參考光源設(shè)置在所述校準(zhǔn)機(jī)器人上。

6.如權(quán)利要求5所述的襯底處理模塊，其中，所述校準(zhǔn)機(jī)器人包括：

校準(zhǔn)手，其被配置為在所述傳送腔室內(nèi)的第一位置和所述處理腔室內(nèi)的第二位置之間移動(dòng)；和

驅(qū)動(dòng)器，其被配置為驅(qū)動(dòng)所述校準(zhǔn)手在所述第一位置和所述第二位置之間移動(dòng)，并且，

其中，所述參考光源與所述傳送手接合。

7.如權(quán)利要求1所述的襯底處理模塊，其中，所述參考光源包括多個(gè)光源，所述多個(gè)光源被配置為分別發(fā)射具有不同波長(zhǎng)帶的多個(gè)參考光。

8.如權(quán)利要求7所述的襯底處理模塊，其中，所述參考光源包括：

第一光源，其被配置為發(fā)射具有第一波長(zhǎng)帶的第一參考光；和

第二光源，其被配置為發(fā)射具有所述第一波長(zhǎng)帶內(nèi)的第二波長(zhǎng)帶的第二參考光，并且

其中，所述第一參考光的第一波長(zhǎng)帶的第一寬度大于所述第二參考光的第二波長(zhǎng)帶的第二寬度。

9.如權(quán)利要求8所述的襯底處理模塊，其中，所述處理腔室包括處理氣體供應(yīng)器，所述處理氣體供應(yīng)器被配置為向所述處理腔室供應(yīng)處理氣體，并且

其中，所述第二波長(zhǎng)帶與所述處理氣體的主波長(zhǎng)帶對(duì)應(yīng)。

10.如權(quán)利要求1所述的襯底處理模塊，還包括：

包括所述處理腔室的多個(gè)處理腔室；和

包括所述光學(xué)發(fā)射光譜系統(tǒng)的多個(gè)光學(xué)發(fā)射光譜系統(tǒng)，所述多個(gè)光學(xué)發(fā)射光譜系統(tǒng)分別設(shè)置在所述多個(gè)處理腔室上，并且

其中，所述多個(gè)光學(xué)發(fā)射光譜系統(tǒng)被配置為對(duì)通過(guò)接收照射到所述多個(gè)處理腔室中的每個(gè)處理腔室內(nèi)的參考光而獲得的數(shù)據(jù)進(jìn)行歸一化。

11.如權(quán)利要求1所述的襯底處理模塊，還包括：包括所述處理腔室的多個(gè)處理腔室，其中，所述傳送腔室包括傳送機(jī)器人，所述傳送機(jī)器人被配置為將所述襯底從所述傳送腔室傳送到所述多個(gè)處理腔室中的每個(gè)處理腔室。

12.如權(quán)利要求11所述的襯底處理模塊，其中，所述多個(gè)處理腔室沿所述傳送腔室的周界布置。

13.一種襯底處理設(shè)備，包括：

腔室，其被配置為在其中容納襯底；

傳送機(jī)器人，其設(shè)置在所述腔室中，并且被配置為將所述襯底從所述腔室傳送到所述腔室的外部；和

參考光源，其設(shè)置在所述腔室中，并且被配置為發(fā)射參考光以監(jiān)視所述腔室的外部。