[發(fā)明專利]薄膜太陽(yáng)能電池的光吸收層的制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910869277.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110571155B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-07-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王順;高傳增;李文杰;楊兵;李偉民;羅海林;馮葉;陳明;鐘國(guó)華;楊春雷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳先進(jìn)技術(shù)研究院 |
| 主分類號(hào): | H01L21/36 | 分類號(hào): | H01L21/36;H01L21/363;H01L31/18;H01L31/032 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰;黃進(jìn) |
| 地址: | 518055 廣東省深圳*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 太陽(yáng)能電池 光吸收 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種薄膜太陽(yáng)能電池的光吸收層的制備方法,包括:應(yīng)用磁控濺射工藝制備獲得半導(dǎo)體預(yù)制層;在半導(dǎo)體預(yù)制層上制備形成硒薄膜層;將形成硒薄膜層后的半導(dǎo)體預(yù)制層置于退火爐中;將半導(dǎo)體預(yù)制層加熱至第一預(yù)定溫度后恒溫第一預(yù)定時(shí)間;將半導(dǎo)體預(yù)制層從第一預(yù)定溫度加熱至第二預(yù)定溫度后恒溫第二預(yù)定時(shí)間,以使半導(dǎo)體預(yù)制層硒化;將半導(dǎo)體預(yù)制層從第二預(yù)定溫度加熱至第三預(yù)定溫度后恒溫第三預(yù)定時(shí)間,并在第三預(yù)定時(shí)間內(nèi)通入硫化氫氣體,以使半導(dǎo)體預(yù)制層硫化,制備獲得硒化硫化的半導(dǎo)體光吸收層。本發(fā)明將半導(dǎo)體預(yù)制層的硒化和硫化設(shè)置在不同溫度下分步進(jìn)行,避免硒化的過(guò)度和不均勻性,同時(shí)也保證了硫化的質(zhì)量,提高光吸收層的品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種薄膜太陽(yáng)能電池的光吸收層的制備方法。
背景技術(shù)
銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽(yáng)能電池是一種高效薄膜太陽(yáng)能電池,其具有高穩(wěn)定性、低成本和長(zhǎng)壽命的優(yōu)勢(shì)。銅銦鎵硒薄膜太陽(yáng)能電池本質(zhì)上是一種直接帶隙半導(dǎo)體,其基本結(jié)構(gòu)包括依次疊層設(shè)置的襯底、背電極、光吸收層、緩沖層、窗口層、減反射層和金屬電極層,其中的光電吸層是由銅、銦、鎵和硒四種元素組成的化合物半導(dǎo)體薄膜。目前,制備銅銦鎵硒光吸收層的方法主要有共蒸發(fā)法和濺射硒化法,濺射硒化法由于其成本低于共蒸發(fā)法,在大尺寸電池的生產(chǎn)工藝中得到廣泛的應(yīng)用。
濺射硒化法是首先在襯底上濺射沉積銅銦鎵的半導(dǎo)體預(yù)制層,然后將半導(dǎo)體預(yù)制層置于含硒化氫或硒蒸氣的氣氛中退火,使銅、銦、鎵、硒四種元素相互反應(yīng)并結(jié)晶,得到符合化學(xué)計(jì)量比的銅銦鎵硒薄膜。
通常地,在濺射硒化的工藝路徑中也要進(jìn)行硫化,硫化的目的是讓硫能夠進(jìn)入硒存在的空位,補(bǔ)償缺陷,同時(shí)硫的引入也能夠提高禁帶寬度,使整個(gè)光吸收層的禁帶寬度呈U型(如圖1所示),即,光吸收層的兩側(cè)表面的禁帶寬度高于光吸收層內(nèi)部禁帶寬度,由此達(dá)到提高開(kāi)路電壓的效果,進(jìn)而提高光電轉(zhuǎn)換率。硫源的引入目前主要有通入硫化氫氣體、固體硫的熱蒸發(fā)和氣體硒,其中采用硫化氫氣體的方式活性高,效果明顯。
目前,濺射后硒化硫化的工藝都是同步進(jìn)行,具體是:首先在銅銦鎵預(yù)制層上蒸鍍硒薄膜層形成銅銦鎵硒前驅(qū)體;然后將所制得的銅銦鎵硒前驅(qū)體放入到退火爐中進(jìn)行預(yù)熱,預(yù)熱溫度為80℃~200℃,讓前驅(qū)體表面變得平整;接著在預(yù)熱溫度下,通入硫化氫氣體;最后在氮?dú)獗Wo(hù)氛圍下進(jìn)行升溫,升至500℃~600℃左右,使銅銦鎵硒前驅(qū)體同時(shí)進(jìn)行硒化和硫化,形成銅銦鎵硒硫(CIGSSe)光吸收層。在這種高溫硒化硫化過(guò)程中,雖然能有效進(jìn)行硫化,增加其禁帶寬度,但無(wú)法分別精確控制硒化和硫化過(guò)程,高溫下硒元素?cái)U(kuò)散較快,隨機(jī)因素較大,會(huì)使每個(gè)薄膜區(qū)域硒化硫化的程度不同,導(dǎo)致薄膜均勻性差、重復(fù)性低,很難保證工業(yè)生產(chǎn)中光吸收層的品質(zhì)。同時(shí),采用這種一步法硒化硫化的工藝,雖然簡(jiǎn)便且節(jié)省時(shí)間,但在高溫下硫的活性高,同時(shí)進(jìn)行的硫化和硒化會(huì)使大量的硫會(huì)進(jìn)入到銅銦鎵硒吸收層的內(nèi)部,使其內(nèi)部的禁帶寬度提高,由此整個(gè)光吸收層的禁帶寬度無(wú)法達(dá)到公認(rèn)最佳的U型分布,會(huì)降低薄膜電池的光電轉(zhuǎn)換率。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,本發(fā)明提供了一種薄膜太陽(yáng)能電池的光吸收層的制備方法,以提高薄膜太陽(yáng)能電池的光吸收層的品質(zhì),進(jìn)而提升電池的光電轉(zhuǎn)換率。
為實(shí)現(xiàn)上述發(fā)明目的,本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案:
一種薄膜太陽(yáng)能電池的光吸收層的制備方法,其包括:
應(yīng)用磁控濺射工藝制備獲得半導(dǎo)體預(yù)制層;
在所述半導(dǎo)體預(yù)制層上蒸發(fā)沉積形成硒薄膜層;
將沉積形成硒薄膜層后的半導(dǎo)體預(yù)制層置于退火爐中;
將所述半導(dǎo)體預(yù)制層加熱至第一預(yù)定溫度后恒溫第一預(yù)定時(shí)間;
將所述半導(dǎo)體預(yù)制層從所述第一預(yù)定溫度加熱升溫至第二預(yù)定溫度后恒溫第二預(yù)定時(shí)間,以使所述半導(dǎo)體預(yù)制層硒化;
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





