[發明專利]一種彩膜基板、顯示面板及其制備方法

在審

• 申請號: 201910869218.3
• 申請日: 2019-09-16
• 公開（公告）號: CN110676293A
• 公開（公告）日: 2020-01-10
• 發明（設計）人: 張良芬
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 44300 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙)
• 代理人: 楊瑞

1.一種彩膜基板，其特征在于，包括依次設置的輔助陰極層、光阻層、RGB色阻層、黑色矩陣和玻璃基板，其中所述黑色矩陣正下方區域的所述光阻層的厚度大于非黑色矩陣下的所述光阻層的厚度，所述輔助陰極層設置于所述黑色矩陣區域下方的所述光阻層的下方。

2.一種顯示面板，其特征在于，包括依次設置的薄膜晶體管基板、陽極層、平坦層、有機發光層、陰極層和根據權利要求1所述的彩膜基板；其中所述輔助陰極層與所述陰極層相接。

3.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述陽極層采用的材料包括銦錫金屬氧化物或銀金屬中的一種。

4.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述平坦層采用的材料為聚酰亞胺薄膜。

5.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述薄膜晶體管基板包括依次設置的基板層、遮光層、緩沖層、有源層、柵極絕緣層、柵極層、層間介質層、源漏極層和有機層。

6.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述源漏極層采用的材料包括鉬、鋁、鈦、銅或銦錫金屬氧化物中的一種。

7.一種制備根據權利要求2-6任一項所述的顯示面板的方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟S1：提供一薄膜晶體管基板，在所述薄膜晶體管基板上制備陽極層；

步驟S2：在所述陽極層上制備平坦層；

步驟S3：在所述平坦層上制備有機發光層；

步驟S4：在所述有機發光層上制備陰極層，形成薄膜晶體管背板；

步驟S5：提供一玻璃基板，在所述玻璃基板上制備黑色矩陣；

步驟S6：在所述黑色矩陣上制備RGB色阻層；

步驟S7：在所述RGB色阻層上制備光阻層，其中所述黑色矩陣區域上方的所述光阻層的厚度大于非黑色矩陣區域上的所述光阻層的厚度；

步驟S8：在所述黑色矩陣區域上方的所述光阻層的上方制備輔助電極層，形成彩膜基板；

步驟S9：將所述薄膜晶體管背板和所述彩膜基板貼合。

8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述平坦層是采用化學氣相沉積方式制備的。

9.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述光阻層是采用半透光罩技術或兩道光罩的方法制備的。

10.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述步驟S9是通過封裝的方式將所述薄膜晶體管背板和所述彩膜基板貼合。