[發明專利]一種防噴濺蒸鍍機構

在審

• 申請號: 201910865999.9
• 申請日: 2019-09-12
• 公開（公告）號: CN112481584A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 丁熙榮
• 申請（專利權）人: 合肥欣奕華智能機器有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291
• 代理人: 王娜

本申請涉及蒸鍍領域，公開了一種防噴濺蒸鍍機構，包括：坩堝，所述坩堝內設有用于容納蒸鍍物的容納腔，所述容納腔一端具有開口；多個內置板組，多個所述內置板組位置可調地設在所述容納腔中、且多個所述內置板組沿所述容納腔的底部向其開口端間隔分布，每個所述內置板組包括多個間隔設置的內置板，至少一個所述內置板上的移動通道與另外至少一個所述內置板上的移動通道在所述容納腔開口端的投影不相互重疊。本申請公開的防噴濺蒸鍍機構，減少開口部被蒸鍍物堵塞的情況發生，還可以防止蒸鍍物噴濺到基板上，以提高蒸鍍在基板上薄膜的均勻性。

技術領域

本申請涉及蒸鍍領域，特別涉及一種防噴濺蒸鍍機構。

背景技術

現有技術中，坩堝上方是開放式的，通過纏繞在坩堝外部的加熱裝置對坩堝進行電加熱，坩堝中容納的蒸鍍物蒸發時產生的蒸汽移動至基板上，因為開口部內外側急劇的溫度變化，蒸鍍物質在開口部周圍凝縮，就可能會發生堵塞開口部的現象。

另外，蒸鍍物質受坩堝內的熱熔化，坩堝內蒸鍍物質的蒸發面中有部分蒸鍍物噴濺到坩堝上部，或是發生以非分子單位而是以小顆粒單位蒸發的現象(即噴濺)，部分蒸鍍物質可能會附著在坩堝上方的開口部位周圍。

在上述情況下，由于開口部被蒸鍍物質堵住，蒸鍍物質的蒸發率會不穩定，且蒸鍍物會噴濺到基板上，從而存在難以確保基板上形成的膜厚的再現性的問題。

發明內容

本申請提供了一種防噴濺蒸鍍機構，可以有效地減少開口部被蒸鍍物堵塞的情況發生，還可以防止蒸鍍物噴濺到基板上，以提高蒸鍍在基板上薄膜的均勻性。

為了達到上述目的，本申請提供了一種防噴濺蒸鍍機構，包括：

坩堝，所述坩堝內設有用于容納蒸鍍物的容納腔，所述容納腔一端具有開口；

多個內置板組，多個所述內置板組位置可調地設在所述容納腔中、且多個所述內置板組沿所述容納腔的底部向其開口端間隔分布，每個所述內置板組包括多個間隔設置的內置板，至少一個所述內置板上的移動通道與另外至少一個所述內置板上的移動通道在所述容納腔開口端的投影不相互重疊。

本申請中的防噴濺蒸鍍機構，多個內置板組沿容納腔的底部向其開口端間隔分布，每個內置板組中，間隔設置多個內置板，至少一個內置板上的移動通道與另外至少一個內置板上的移動通道在容納腔開口端的投影不相互重疊。由此，坩堝中的蒸鍍物在急劇蒸發時，被蒸發的蒸鍍物會以小顆粒的形式向坩堝開口端移動，因多個內置板的移動通道在坩堝內部的容納腔中為非垂直的通道，在移動的過程中被蒸發的蒸鍍物質會與內置板產生撞擊后分裂成分子單位，然后繼續向容納腔的開口端移動，從而防止蒸鍍物噴濺到基板上。另外，當蒸鍍物的量及工藝條件的變化時，調節內置板組安裝在容納腔中的位置，使坩堝內部與外部的壓力差穩定，以減少容納腔的開口部被蒸鍍物堵塞的情況發生。

與現有技術相對比，現有技術中將一個內置板固定在容納腔的內部，當容納腔內部蒸鍍物的量及工藝溫度條件改變時，依舊會存在噴濺及堵塞的現象，本申請中的防噴濺蒸鍍機構能夠調節內置板組在容納腔中的位置，減少容納腔堵塞情況發生，且每個內置板組中的內置板上移動通道的設置方式能夠防止蒸鍍物噴濺到基板上。

優選地，每個所述內置板組包括：

第一內置板，所述第一內置板與所述容納腔的內壁密封連接，所述第一內置板上設有第一移動通道；

第二內置板，所述第二內置板設在所述第一內置板與所述容納腔的開口端之間，且所述第二內置板與容納腔的內壁密封連接，所述第二內置板上設有多個第二移動通道。

優選地，所述第一移動通道位于所述第一內置板的中心，多個所述第二移動通道均勻分布在所述第二內置板的邊沿。

優選地，在所述容納腔開口端的投影上，所述第一移動通道的面積大于多個所述第二移動通道的面積之和。