[發(fā)明專利]一種防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910865999.9 | 申請(qǐng)日: | 2019-09-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112481584A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 丁熙榮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 合肥欣奕華智能機(jī)器有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 王娜 |
| 地址: | 230013 安徽省合*** | 國(guó)省代碼: | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 噴濺 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,包括:
坩堝,所述坩堝內(nèi)設(shè)有用于容納蒸鍍物的容納腔,所述容納腔一端具有開(kāi)口;
多個(gè)內(nèi)置板組,多個(gè)所述內(nèi)置板組位置可調(diào)地設(shè)在所述容納腔中、且多個(gè)所述內(nèi)置板組沿所述容納腔的底部向其開(kāi)口端間隔分布,每個(gè)所述內(nèi)置板組包括多個(gè)間隔設(shè)置的內(nèi)置板,至少一個(gè)所述內(nèi)置板上的移動(dòng)通道與另外至少一個(gè)所述內(nèi)置板上的移動(dòng)通道在所述容納腔開(kāi)口端的投影不相互重疊。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,每個(gè)所述內(nèi)置板組包括:
第一內(nèi)置板,所述第一內(nèi)置板與所述容納腔的內(nèi)壁密封連接,所述第一內(nèi)置板上設(shè)有第一移動(dòng)通道;
第二內(nèi)置板,所述第二內(nèi)置板設(shè)在所述第一內(nèi)置板與所述容納腔的開(kāi)口端之間,且所述第二內(nèi)置板與容納腔的內(nèi)壁密封連接,所述第二內(nèi)置板上設(shè)有多個(gè)第二移動(dòng)通道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一移動(dòng)通道位于所述第一內(nèi)置板的中心,多個(gè)所述第二移動(dòng)通道均勻分布在所述第二內(nèi)置板的邊沿。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,在所述容納腔開(kāi)口端的投影上,所述第一移動(dòng)通道的面積大于多個(gè)所述第二移動(dòng)通道的面積之和。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,所述內(nèi)置板組還包括用于安裝所述內(nèi)置板的放置環(huán);
所述放置環(huán)位置可調(diào)的設(shè)在所容納腔的內(nèi)部、且所述放置環(huán)與所述容納腔密封連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,所述放置環(huán)內(nèi)設(shè)有用于安裝所述內(nèi)置板的卡槽或臺(tái)階面。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,所述放置環(huán)為開(kāi)口環(huán)。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,所述放置環(huán)為彈性環(huán)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,還包括設(shè)置于所述坩堝外側(cè)以對(duì)所述坩堝進(jìn)行加熱的加熱組件。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的防噴濺蒸鍍機(jī)構(gòu),其特征在于,還包括設(shè)置于所述加熱組件周側(cè)的冷卻單元。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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