[發(fā)明專(zhuān)利]一種原子層沉積設(shè)備用工藝殘余氣體的過(guò)濾裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910859313.5
• 申請(qǐng)日: 2019-09-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110453199A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-11-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 靳偉;崔國(guó)東;戴秀海
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 光馳科技(上海)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/455
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/455;B01D5/00;B01D46/00;B01D53/76
• 代理公司: 31214 上海申蒙商標(biāo)專(zhuān)利代理有限公司
• 代理人: 周宇凡<國(guó)際申請(qǐng)>=<國(guó)際公布>=<進(jìn)入

1.一種原子層沉積設(shè)備用工藝殘余氣體的過(guò)濾裝置，其特征在于：所述過(guò)濾裝置設(shè)置在原子層沉積真空腔體與用于抽吸所述原子層沉積真空腔體內(nèi)工藝殘余氣體的真空干泵之間；所述過(guò)濾裝置至少包括冷凝過(guò)濾裝置以及反應(yīng)過(guò)濾裝置，所述冷凝過(guò)濾裝置的入口與所述原子層沉積真空腔體相連接，出口與所述反應(yīng)過(guò)濾裝置的入口相連接，所述反應(yīng)過(guò)濾裝置的出口與所述真空干泵相連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層沉積設(shè)備用工藝殘余氣體的過(guò)濾裝置，其特征在于：所述冷凝過(guò)濾裝置指的是真空冷凝罐，所述真空冷凝罐內(nèi)設(shè)置有多重導(dǎo)流板構(gòu)成氣體通路，所述多重導(dǎo)流板相互交錯(cuò)布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子層沉積設(shè)備用工藝殘余氣體的過(guò)濾裝置，其特征在于：所述反應(yīng)過(guò)濾裝置指的是真空過(guò)濾罐，所述真空過(guò)濾罐連接有水補(bǔ)充罐，所述真空過(guò)濾罐內(nèi)部設(shè)置有粉塵過(guò)濾器；所述水補(bǔ)充罐所提供的水蒸氣與所述工藝殘余氣體在所述粉塵過(guò)濾器表面發(fā)生反應(yīng)并生成于其表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種原子層沉積設(shè)備用工藝殘余氣體的過(guò)濾裝置，其特征在于：所述粉塵過(guò)濾器連接有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置，所述粉塵過(guò)濾器可通過(guò)旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置的驅(qū)動(dòng)在所述真空過(guò)濾罐內(nèi)部旋轉(zhuǎn)；在所述真空過(guò)濾罐的側(cè)壁上設(shè)置有粉塵刮板，所述粉塵刮板朝向所述粉塵過(guò)濾器。