[發明專利]一種單向透光玻璃及制備方法

有效

• 申請號: 201910859206.2
• 申請日: 2019-09-11
• 公開（公告）號: CN110550868B
• 公開（公告）日: 2021-12-10
• 發明（設計）人: 李旺;唐鹿
• 申請（專利權）人: 江西科技學院
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 北京科家知識產權代理事務所(普通合伙) 11427
• 代理人: 陳娟

本發明公開了一種單向透光玻璃，包括：玻璃基板以及依次疊加設置在玻璃基板一側表面的復合電介質層、非晶硅層、第一SiOx層、微晶硅層、第二SiOx層；其中，復合電介質層和非晶硅層組成第一光學模塊，第一SiOx層、微晶硅層和第二SiOx層組成第二光學模塊；該單向透光玻璃的制備方法為：在玻璃基板上沉積復合電介質層；在復合電介質層上采用等離子增強化學氣相沉積法沉積非晶硅層；在非晶硅層上采用等離子增強化學氣相沉積法沉積第一SiOx層；在第一SiOx層上沉積微晶硅層；在微晶硅上沉積第二SiOx層。本發明利用上述玻璃的各層之間不同折射率和各層膜厚度的組合，構成一個非對稱結構光學器件，使得兩個面對光具有不同反射率，從而實現單向透光。

技術領域

本發明涉及光學玻璃領域，特別是涉及一種單向透光玻璃及其制備方法。

背景技術

單向玻璃具有單向的透視功能，在一些特定場所具有重要的應用價值。現有技術中單向透視玻璃一般采用貼膜的結構，通過這種貼膜結構的來實現玻璃的單向透視效果，但這種通過貼膜的方式存在一定的問題，例如所貼的單向膜在受到摩擦后容易受到破壞、脫落等缺點。

現有技術中另一種單向透視玻璃是在玻璃表面上沉積金屬層及其相配合的他功能層結構。這種結構雖然簡單，但單向透視玻璃的金屬層容易從玻璃表面脫離，特別是在長期使用時，金屬層中的金屬會被氧化，會直接造成單向透視玻璃的透視性降低，甚至失去單向透視的作用。另外，上述的現有單向透視玻璃均只有在兩側光源存在明顯差別時，單向透光作用才會顯著，因此，在實際應用時存在一定的局限性。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供一種結構牢固、簡單的單向透光玻璃。該玻璃利用各層之間不同折射率和各層膜厚度組合，構成一個非對稱結構光學器件，利用光的干涉原理，使得兩個面對光具有不同反射率，從而實現單向透光。

本發明采用的技術方案為：一種單向透光玻璃，包括：玻璃基板以及依次疊加設置在所述玻璃基板一側表面的復合電介質層、非晶硅層、第一SiOx層、微晶硅層、第二SiOx層；其中，所述復合電介質層和所述非晶硅層組成第一光學模塊，所述第一SiOx層、所述微晶硅層和所述第二SiOx層組成第二光學模塊；所述復合電介質層、所述非晶硅層、所述第一SiOx層、所述微晶硅層、所述第二SiOx層依次沉積在所述玻璃基板同一側面。

本發明一個較佳實施例中，所述復合電介質層包括SiOx、SiNx、SiNyOx一種或者多種復合薄膜。

本發明一個較佳實施例中，所述復合電介質層、所述非晶硅層、所述第一SiOx層、所述微晶硅層、所述第二SiOx層均能夠通過等離子體增強化學的氣相沉積法制備沉積。

為了解決現有技術的不足，本發明的另一技術方案為：一種單向透光玻璃的制備方法，步驟如下：

S1在所述玻璃基板上沉積復合電介質層；

S2在所述復合電介質層上采用等離子增強化學氣相沉積法沉積非晶硅層；

S3在所述非晶硅層上采用等離子增強化學氣相沉積法沉積第一SiOx層；

S4在所述第一SiOx層上采用等離子增強化學氣相沉積法沉積微晶硅層；

S5在所述微晶硅上采用等離子增強化學氣相沉積法沉積第二SiOx層。

本發明一個較佳實施例中，，所述復合電介質層的厚度為12-20nm，所述復合電介質層的折射率在1.6-2.2之間；所述非晶硅層的厚度為20-35nm，折射率在3.2-3.7之間；所述第一SiOx層的厚度為20-40nm，折射率在1.3-2.3；所述微晶硅層厚度為10-15nm，折射率在3.6-3.8；所述第二SiOx層的厚度為40-80nm，折射率在2.3-2.7。