[發(fā)明專利]一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910853722.4 | 申請日: | 2019-09-10 |
| 公開(公告)號: | CN110568731B | 公開(公告)日: | 2020-10-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郝翔;劉鑫;匡翠方;劉旭;李海峰 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江大學(xué);之江實驗室 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G02B21/00 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務(wù)所有限公司 33200 | 代理人: | 劉靜 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 衍射 極限 陣列 生成 裝置 | ||
1.一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,包括:
第一光源模塊、第一反射鏡、第一光調(diào)制模塊、第一透鏡、第二透鏡、第二反射鏡、第二光源模塊、第三反射鏡、第二光調(diào)制模塊、第三透鏡、第四透鏡、第一二色鏡、第一振鏡、第二振鏡、掃描透鏡、第五透鏡和第二二色鏡;
第一光源模塊發(fā)出準直左旋圓偏振光,經(jīng)第一反射鏡入射到第一光調(diào)制模塊,經(jīng)其相位調(diào)制后,再經(jīng)第一透鏡、第二透鏡、第二反射鏡入射到第一二色鏡表面,經(jīng)第一二色鏡表面反射,再經(jīng)第一振鏡、第二振鏡、掃描透鏡、第五透鏡聚焦至樣品,此光束為第一光束,此光束在樣品上形成空心焦斑陣列;
第二光源模塊發(fā)出準直光,經(jīng)第三反射鏡入射到第二光調(diào)制模塊,經(jīng)其相位調(diào)制后,再經(jīng)第三透鏡、第四透鏡、再經(jīng)第二二色鏡透射,到達第一二色鏡,經(jīng)第一二色鏡透射,再經(jīng)第一振鏡、第二振鏡、掃描透鏡、第五透鏡聚焦至樣品,此光束為第二光束,此光束在樣品上形成實心焦斑陣列;
第一光束的空心焦斑陣列與第二光束的實心焦斑陣列在樣品上重合,從而生成超衍射極限焦斑陣列。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,所述第一光調(diào)制模塊與掃描透鏡的前焦面通過第一透鏡和第二透鏡保持光學(xué)共軛關(guān)系;所述第一光調(diào)制模塊位于第一透鏡的前焦面上,掃描透鏡的前焦面等效位于第二透鏡的后焦面上;所述第一光調(diào)制模塊、第一透鏡、第二透鏡和掃描透鏡的前焦面構(gòu)成一個4f系統(tǒng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,所述第二光調(diào)制模塊與掃描透鏡的前焦面通過第三透鏡和第四透鏡保持光學(xué)共軛關(guān)系;所述第二光調(diào)制模塊位于第三透鏡的前焦面上,掃面透鏡的前焦面等效位于第四透鏡的后焦面上;所述第二光調(diào)制模塊、第三透鏡、第四透鏡和掃描透鏡的前焦面構(gòu)成一個4f系統(tǒng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,所述第一光源模塊的作用是產(chǎn)生準直左旋圓偏振光,用于抑制熒光分子的發(fā)光或?qū)饪棠z的去交聯(lián);所述第二光源模塊用于激發(fā)樣品熒光或使光刻膠發(fā)生交聯(lián)反應(yīng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,所述第一光調(diào)制模塊對第一光源模塊發(fā)出的準直左旋圓偏振光進行相位調(diào)制的具體方法為:將所需要生成的理想目標空心焦斑陣列作為輸入,利用相位反演算法,計算出在第一光調(diào)制模塊上需要施加的相位分布,再經(jīng)第一光調(diào)制模塊加載該相位分布,從而實現(xiàn)對第一光束的調(diào)制。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,所述第二光調(diào)制模塊對第二光源模塊發(fā)出的準直光進行相位調(diào)制的具體方法為:將所需要生成的理想目標實心焦斑陣列作為輸入,利用相位反演算法,計算出在第二光調(diào)制模塊上需要施加的相位分布,再經(jīng)第二光調(diào)制模塊加載該相位分布,從而實現(xiàn)對第二光束的調(diào)制。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,所述第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡和第四透鏡均為雙膠合消色差凸透鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,所述第一二色鏡對第一光束反射,對第二光束和從樣品發(fā)出的熒光透射;所述第二二色鏡對第二光束透射,對從樣品發(fā)出的熒光反射。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種超衍射極限焦斑陣列生成裝置,其特征在于,該裝置還包括第六透鏡和光接收模塊;所述第二二色鏡將從樣品發(fā)出的熒光反射至第六透鏡,經(jīng)第六透鏡聚焦后由光接收模塊接收。
10.一種高通量超衍射極限成像與激光直寫復(fù)合系統(tǒng),其特征在于,包括權(quán)利要求9所述的超衍射極限焦斑陣列生成裝置;
所述第一光源模塊由第一激光光源、第一偏振器、四分之一波片、第七透鏡、第一孔徑光闌和第八透鏡組成;所述第二光源模塊由第二激光光源、第二偏振器、第九透鏡、第二孔徑光闌和第十透鏡組成;所述第五透鏡由場鏡和顯微物鏡組成;所述光接收模塊采用單光子探測器;所有光學(xué)元件位于同軸光路上;
所述第一激光光源發(fā)出的光經(jīng)第一偏振器變?yōu)榫€偏振光,再經(jīng)四分之一波片變?yōu)樽笮龍A偏振光,經(jīng)第七透鏡、第一孔徑光闌和第八透鏡準直,再經(jīng)第一反射鏡入射到第一光調(diào)制模塊,經(jīng)其相位調(diào)制后,再經(jīng)第一透鏡、第二透鏡、第二反射鏡入射到第一二色鏡表面,經(jīng)第一二色鏡表面反射,再經(jīng)第一振鏡、第二振鏡、掃描透鏡、場鏡,再經(jīng)顯微物鏡聚焦至樣品,此光束為第一光束,此光束在樣品上的焦斑為空心焦斑陣列;
所述第二激光光源發(fā)出的光經(jīng)第二偏振器變?yōu)榫€偏振光,再經(jīng)第九透鏡、第二孔徑光闌和第十透鏡準直,經(jīng)第三反射鏡入射到第二光調(diào)制模塊,再經(jīng)第三透鏡、第四透鏡、再經(jīng)第二二色鏡透射,到達第一二色鏡,經(jīng)第一二色鏡透射,再經(jīng)第一振鏡、第二振鏡、掃描透鏡、場鏡、顯微物鏡聚焦至樣品,此光束為第二光束,此光束在樣品上的焦斑為實心焦斑陣列;
第一光束的空心焦斑陣列與第二光束的實心焦斑陣列在樣品上重合,從而生成超衍射極限焦斑陣列。
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