[發(fā)明專利]測量裝置和測量方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910847273.2
• 申請日: 2019-09-09
• 公開（公告）號: CN110887820A
• 公開（公告）日: 2020-03-17
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山內(nèi)豐彥;安彥修;山田秀直;松井永幸
• 申請（專利權(quán)）人: 浜松光子學(xué)株式會社
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 楊琦;尹明花

1.一種測量裝置，其特征在于，

具備：

熒光圖像取得部，其取得包括對象物的熒光圖像；

干涉圖像取得部，其取得包括所述對象物的干涉圖像；以及

運算部，其在對應(yīng)于所述熒光圖像中的像素值大于閾值的區(qū)域的所述干涉圖像中的區(qū)域中，求得基于所述干涉圖像的光學(xué)厚度的積分值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的測量裝置，其特征在于，

所述運算部基于所述干涉圖像制作光學(xué)厚度圖像，并制作表示所述熒光圖像中的像素值大于閾值的區(qū)域的掩模圖像，并且在所述光學(xué)厚度圖像中的所述掩模圖像表示的區(qū)域中求得所述光學(xué)厚度的積分值。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量裝置，其特征在于，

所述干涉圖像取得部使用非相干光來取得干涉圖像。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的測量裝置，其特征在于，

所述干涉圖像取得部及所述熒光圖像取得部各自的光學(xué)系統(tǒng)的至少一部分是共通的。

5.一種測量方法，其特征在于，

具備：

熒光圖像取得步驟，通過熒光圖像取得部取得包括對象物的熒光圖像；

干涉圖像取得步驟，通過干涉圖像取得部取得包括所述對象物的干涉圖像；以及

運算步驟，在對應(yīng)于所述熒光圖像中的像素值大于閾值的區(qū)域的所述干涉圖像中的區(qū)域中，求得基于所述干涉圖像的光學(xué)厚度的積分值。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的測量方法，其特征在于，

在所述運算步驟中，基于所述干涉圖像制作光學(xué)厚度圖像，并制作表示所述熒光圖像中的像素值大于閾值的區(qū)域的掩模圖像，并且在所述光學(xué)厚度圖像中的所述掩模圖像表示的區(qū)域中求得所述光學(xué)厚度的積分值。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的測量方法，其特征在于，

在所述干涉圖像取得步驟中，所述干涉圖像取得部使用非相干光來取得干涉圖像。

8.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的測量方法，其特征在于，

所述干涉圖像取得部及所述熒光圖像取得部各自的光學(xué)系統(tǒng)的至少一部分是共通的。

9.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的測量方法，其特征在于，

所述對象物是被熒光染色的細胞核，

在所述運算步驟中，求得所述光學(xué)厚度的積分值作為與所述細胞核的總量成比例的指標。