[發明專利]光刻制程的方法及其板材定位裝置

在審

• 申請號: 201910841187.0
• 申請日: 2019-09-06
• 公開（公告）號: CN112462575A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發明（設計）人: 謝淑日
• 申請（專利權）人: 臺灣恒基股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京科龍寰宇知識產權代理有限責任公司 11139
• 代理人: 李林

本發明提供一種光刻制程的方法及其板材定位裝置，其中該承載平臺的定位座板系先吸附預設板材形成定位后，再利用抵持階板吸附底片光罩，使底片光罩可貼合于預設板材的上方表面，再通過曝光模塊照射曝光，將底片光罩上的圖案成型于預設板材的表面，使進行后續曝光處理作業時不會產生斜光，達到供預設板材密合定位于底片光罩表面，以解決曝光處理作業時成型效果不佳的問題。

技術領域

本發明涉及一種光刻制程的方法及其板材定位裝置，尤指在光刻制程中，通過承載平臺上設置的定位座板與抵持階板以吸附預設板材與底片光罩，使進行后續曝光處理作業不會產生斜光，造成成型的效果不佳，影響產品的合格率。

背景技術

觸控屏幕主要設有供觸碰的觸控式面板，而一般觸控式面板可為透明預設板材(可為玻璃、塑膠面板或壓克力面板等，而通常為玻璃)，并于基材表面上設計導電線路或必要的邊框、線條或紋路等，以成型觸控式面板，即可符合各種產品應用的感應屏幕的觸控式面板，則完成感應屏幕的制作，而在進行觸控面板的加工過程中，是在預設板材表面進行加工并涂布有光刻膠，以成型必要的導電線路、邊框、線條或紋路等設計，以供觸控式面板方便應用、操作。

然而，一般觸控式面板的玻璃基材在進行光刻加工制程時，是在一承載平臺上放置有預設板材，預設板材上有底片光罩，底片光罩上方再設置玻璃，底片光罩設置在玻璃及預設板材之間，利用壓合的方式，將預設板材與底片光罩壓合再承載平臺與玻璃之間形成定位，再利用曝光模塊垂直照射將光線照射至底片光罩，將底片光罩的圖案再成型于預設板材上，但因底片光罩與預設板材兩者是壓合固定，所以在壓合過程中會產生一點點間隙，使得光線照射至底片光罩會有斜光，造成成型的效果不佳，影響產品的合格率，是以，如何改善將即為從事此行業的相關廠商所亟欲研究改善的方向所在。

發明內容

因此，本發明人有鑒于上述的問題與缺失，乃搜集相關資料，經由多方評估及考量，并以從事于此行業累積的多年經驗，經由不斷試作及修改，始設計出此種發明專利誕生。

為實現上述目的，本發明采用的技術方案是：

一種光刻制程的方法，其特征在于：包括承載平臺、升降機構及曝光模塊，包括有對預設板材進行曝光處理的步驟：

(A)利用預設的輸送裝置將預設板材輸送至承載平臺上方；

(B)使預設板材放置于定位座板處，再啟動抽真空設備通過復數氣孔吸附預設板材形成定位；

(C)將升降機構下降至承載平臺上方處，使底片光罩貼近于定位座板上方周邊的抵持階板，再使抽真空設備通過復數氣孔吸附底片光罩，使底片光罩貼合于預設板材上方表面處；以及

(D)憑借曝光模塊照射將光線投射至底片光罩，將底片光罩上的圖案在預設板材上曝光成型。

所述的光刻制程的方法，其中：該(C)的步驟執行完成后，再利用滾輪機構沿預設板材側邊并抵壓上方的底片光罩表面呈橫向往復位移。

一種光刻制程的板材定位裝置，其特征在于：包括一承載平臺、一升降機構及一曝光模塊，包括：

該承載平臺設有位于底部表面中央位置處的一定位座板，該定位座板上設有吸附一預設板材形成定位的復數氣孔，在該定位座板的周邊上方處形成有由外側向內凹陷呈階梯結構的一抵持階板，且該抵持階板上設有吸附一底片光罩與該預設板材貼合定位的復數透孔；

該升降機構上方設有呈中空狀的一框架，定位于該框架中內具圖案的該底片光罩，且該框架設有驅動該框架于該承載平臺上方，而該升降機構底部設有縱向位移的一驅動單元；及

該曝光模塊，其設于該承載平臺上方；憑借該曝光模塊向下照射將光線投射至該底片光罩，使該底片光罩上的圖案在該預設板材上成型。