[發明專利]一種制備窄間距的手性微納結構的方法

有效

• 申請號: 201910839132.6
• 申請日: 2019-09-05
• 公開（公告）號: CN110515280B
• 公開（公告）日: 2021-08-13
• 發明（設計）人: 張中月;白瑜;唐先龍;景志敏;李穎
• 申請（專利權）人: 陜西師范大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 重慶萃智邦成專利代理事務所(普通合伙) 50231
• 代理人: 竺棟

1.一種制備窄間距的手性微納結構的方法，其特征在于，包括以下步驟：

準備基底：準備潔凈的玻璃基底或者ITO基底；

涂覆光刻膠：用甩膠機在準備好的基底表面甩一層光刻膠；

電子束曝光結構圖形：用圖形發生器設計方形周期陣列結構，并用電子束對設定區域曝光刻蝕，得到寬度為d的縫隙；

顯影定影；

蒸鍍金屬：采用電子束真空蒸發鍍膜儀蒸鍍金屬材料，蒸鍍金屬的具體步驟為：步驟一，采用第一沉積角θ₁在第一區域蒸鍍厚度為h₁，寬度為w₁的金屬材料；步驟二，采用第二沉積角θ₂在第二區域蒸鍍厚度為h₂，寬度為w₂的金屬材料；步驟三，采用第三沉積角θ₃在第三區域蒸鍍厚度為h₃，寬度為w₃的金屬材料；沉積角θ、蒸鍍厚度h與寬度為w之間的關系為θ=arctan(h/(d－w))；其中，在以上三個步驟中，蒸鍍金屬的方向不同；并且，蒸鍍金屬的寬度w₁，w₂，w₃均小于刻蝕孔隙的寬度d；

除膠：將蒸鍍完金屬的基底放入冷藏的丙酮溶液中除膠；

沖洗：用去離子水將除膠后的基底用去離子水沖洗至潔凈。

2.根據權利要求1所述的制備窄間距的手性微納結構的方法，其特征在于，所述蒸鍍金屬的厚度h₁，h₂，h₃均小于光刻膠厚度的1/3。

3.根據權利要求1所述的制備窄間距的手性微納結構的方法，其特征在于，所述涂覆光刻膠時甩膠機轉速為1000rpm~6000rpm，時間為60s。

4.根據權利要求1所述的制備窄間距的手性微納結構的方法，其特征在于，所述金屬材料為貴金屬材料。