[發明專利]一種砷化鎵背侵的去除方法在審
| 申請號： | 201910831475.8 | 申請日： | 2019-09-03 |
| 公開（公告）號： | CN110373720A | 公開（公告）日： | 2019-10-25 |
| 發明（設計）人： | 宋向榮;周鐵軍;馬金峰;嚴衛東;唐林鋒;劉火陽 | 申請（專利權）人： | 廣東先導先進材料股份有限公司 |
| 主分類號： | C30B33/10 | 分類號： | C30B33/10;C30B29/42 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 顏希文;宋靜娜 |
| 地址： | 511517 廣東省清*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 砷化鎵晶片 去除 清洗 化學腐蝕液 加工工序 去離子水 研磨 拋光 砷化鎵 沖洗 過氧化氫 氫氧化鉀 氫氧化鈉 有機溶劑 浸沒 浸洗 腐蝕 | ||
1.一種砷化鎵背侵的去除方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：
(1)將砷化鎵晶片在有機溶劑中浸洗后用去離子水沖洗；
(2)將步驟(1)處理后的砷化鎵晶片浸沒在化學腐蝕液中腐蝕清洗，所述化學腐蝕液包括堿、過氧化氫和水，所述堿為氫氧化鉀或者氫氧化鈉；
(3)將步驟(2)處理后的砷化鎵晶片用去離子水沖洗后干燥。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述化學腐蝕液中堿的質量濃度為3％-15％，化學腐蝕液中過氧化氫的質量濃度為2％-20％。
3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述化學腐蝕液中過氧化氫的質量濃度為4％-8％。
4.根據權利要求2或3所述的方法，其特征在于，化學腐蝕液中堿的質量濃度為5％-10％。
5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，腐蝕清洗的時間為1分鐘-5分鐘，腐蝕清洗的溫度為10℃-20℃。
6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述有機溶劑為乙醇或者乙醇水溶液。
7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中，有機溶劑中浸洗的時間為20min-30min，浸洗的溫度為10℃-40℃。
8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(1)中，去離子水沖洗的方式為溢流漂洗、快排沖水相結合。
9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(2)中，腐蝕清洗的方式為勻速震蕩腐蝕清洗、兆聲波輔助腐蝕清洗或者超聲波輔助腐蝕清洗。
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