[發(fā)明專利]遮蔽組件及其應(yīng)用的電解裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910828247.5 | 申請日: | 2019-09-03 |
| 公開(公告)號: | CN110592652A | 公開(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉建波;朱愛明;吳志鵬 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山東威科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C25F7/00 | 分類號: | C25F7/00;C25F3/02;H05K3/07 |
| 代理公司: | 11250 北京三聚陽光知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 賈曉燕 |
| 地址: | 215300 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 蝕刻 陰極件 遮蔽單元 電解液 浮動 技術(shù)方案要點 陽極 表面反應(yīng) 導(dǎo)電連接 電解蝕刻 升降單元 升降運動 遮蔽組件 阻擋位置 不均勻 流動 驅(qū)動 | ||
本發(fā)明屬于電解蝕刻技術(shù)領(lǐng)域,用于解決待蝕刻件表面反應(yīng)不均勻的問題,技術(shù)方案要點包括:一種遮蔽組件,包括機架,以及設(shè)于所述機架上的遮蔽單元,設(shè)于陰極件的端部和待蝕刻件之間以減緩所述陰極件端部與所述待蝕刻件之間的電解液的流動,所述待蝕刻件與陽極導(dǎo)電連接;浮動遮蔽單元,由升降單元驅(qū)動在陰極件和待蝕刻件之間升降運動以調(diào)節(jié)其阻擋位置,所述浮動遮蔽單元至少對應(yīng)設(shè)于所述待蝕刻件的端部以減緩所述陰極件與所述待蝕刻件端部之間的電解液的流動。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電解蝕刻技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種遮蔽組件及其應(yīng)用的電解裝置。
背景技術(shù)
電解蝕刻在PCB板生產(chǎn)過程中是首次運用,是指電解PCB板,將待蝕刻板件作為陽極,將不銹鋼板或純銅板作為陰極,將陽極連接電源的正極,陰極連接電源的負極,陽極和陰極都浸在電解質(zhì)溶液中。當電流通過電極和電解質(zhì)溶液時,在電極的表面及電解質(zhì)溶液中發(fā)生電化學(xué)反應(yīng),利用這種反應(yīng)將PCB板面裸露要蝕刻的銅去除,達到PCB板面裸露不需要的銅被腐蝕的目的。電解蝕刻裝置的電源接通后,在陽極上發(fā)生氧化反應(yīng)、在陰極上發(fā)生還原反應(yīng)。陽極反應(yīng)的結(jié)果是待蝕刻部分的金屬被氧化變成金屬銅離子進入電解質(zhì)溶液。
由于自然狀態(tài)下待蝕刻板件的邊緣部分不可避免地會發(fā)生電力線的邊緣效應(yīng),因此邊緣部分電解蝕刻的速度會更快,若任由待蝕刻板件的邊緣、中間位置都以同樣的速度進行電解蝕刻,則必然會造成整體蝕刻不勻的狀況。
因此,在電解蝕刻設(shè)備中,需要設(shè)置對陰極板、陽極板邊緣或中心位置的反應(yīng)速度進行調(diào)節(jié)的擋板機構(gòu)。例如授權(quán)公告號為CN202164371U的中國專利公開的電鍍裝置的遮蔽裝置,是在電鍍槽中設(shè)置兩片固定遮板,兩固定遮板之間即為待電鍍板件。固定遮板設(shè)置為鏤空的板件,在矩形固定遮板的兩條對邊處設(shè)置有能夠沿該對邊垂直方向滑動的活動遮片,活動遮片為實體板件,因此電鍍過程中,活動遮片處的藥液流動受到活動遮片的阻礙,相對較平穩(wěn),而其它鏤空位置的藥液流動速度更快,因此待電鍍板件對應(yīng)活動遮片處的部分電鍍速度慢,而對應(yīng)鏤空位置處的部分電鍍速度快。
但上述結(jié)構(gòu)中,活動遮片僅能夠沿著垂直方向移動,待蝕刻板件頂部和底部為邊緣效應(yīng)的多發(fā)位置,又由于待蝕刻板件在蝕刻過程中要求完全浸沒在藥液中,其頂部和底部必然會同時發(fā)生邊緣效應(yīng)。由于此遮板只能作用于板件的底部,因此待蝕刻板件頂部的邊緣效應(yīng)難以通過活動遮片的結(jié)構(gòu)來控制,就容易有頂部或底部與中間位置的蝕刻效果不均勻的情況出現(xiàn)。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明要解決的技術(shù)問題在于克服現(xiàn)有技術(shù)中電解蝕刻板件容易發(fā)生邊緣效應(yīng)而影響蝕刻效果的缺陷,從而提供一種新的組合遮蔽組件。
一種遮蔽組件,包括:
機架,以及設(shè)于所述機架上的;
遮蔽單元,設(shè)于陰極件的端部和待蝕刻件之間以減緩所述陰極件端部與所述待蝕刻件之間的電解液的流動,所述待蝕刻件與陽極導(dǎo)電連接;
浮動遮蔽單元,由升降單元驅(qū)動在陰極件和待蝕刻件之間上下升降運動以調(diào)節(jié)其阻擋位置,所述浮動遮蔽單元至少對應(yīng)設(shè)于所述待蝕刻件的端部以減緩所述陰極件與所述待蝕刻件端部之間的電解液的流動,升降單元包括固定于機架上的動力源、連接動力源與浮動遮蔽單元的連接件。
所述遮蔽單元為遮板,所述遮板包括允許電解液流通的開口部和阻礙所述電解液流通的實心部,所述實心部與所述陰極件的上下端部對應(yīng)設(shè)置且上端部高度可以調(diào)節(jié)。
所述陰極件為片狀陰極,所述遮蔽單元還包括框體,所述框體的上下一對邊框內(nèi)分別形成有所述實心部,所述實心部之間形成所述開口,一對所述實心部分別與所述片狀陰極的兩端部對應(yīng)設(shè)置。
所述陰極件為陰極板,所述遮蔽單元還包括框體,所述框體的四條邊框內(nèi)分別形成有所述實心部,四個所述實心部之間形成所述開口,四個所述實心部分別與所述陰極板的四條邊對應(yīng)設(shè)置。
所述陰極板為不銹鋼板或純銅板,所述待蝕刻件為PCB板。
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