[發(fā)明專利]遮蔽組件及其應用的電解裝置

在審

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• 申請日: 2019-09-03
• 公開（公告）號: CN110592652A
• 公開（公告）日: 2019-12-20
• 發(fā)明（設計）人: 劉建波;朱愛明;吳志鵬
• 申請（專利權）人: 昆山東威科技股份有限公司
• 主分類號: C25F7/00
• 分類號: C25F7/00;C25F3/02;H05K3/07
• 代理公司: 11250 北京三聚陽光知識產(chǎn)權代理有限公司
• 代理人: 賈曉燕

1.一種遮蔽組件，其特征在于，包括：

機架(7)，以及設于所述機架(7)上的；

遮蔽單元(1)，設于陰極件(61)的端部和待蝕刻件(62)之間以減緩所述陰極件(61)端部與所述待蝕刻件(62)之間的電解液的流動，所述待蝕刻件(62)與陽極(63)導電連接；

浮動遮蔽單元(2)，由升降單元驅動在陰極件(61)和待蝕刻件(62)之間升降運動以調節(jié)其阻擋位置，所述浮動遮蔽單元(2)至少對應設于所述待蝕刻件(62)的端部以減緩所述陰極件(61)與所述待蝕刻件(62)端部之間的電解液的流動，升降單元包括固定于機架(7)上的動力源、連接動力源與浮動遮蔽單元(2)的連接件。

2.根據(jù)權利要求1所述的遮蔽組件，其特征在于，所述遮蔽單元(1)為遮板，所述遮板包括允許電解液流通的開口部(11)和阻礙所述電解液流通的實心部(12)，所述實心部(12)與所述陰極件(61)的上下端部對應設置。

3.根據(jù)權利要求2所述的遮蔽組件，其特征在于：所述陰極件(61)為桿狀陰極，所述遮蔽單元(1)還包括框體(13)，所述框體(13)的上下一對邊框內分別形成有所述實心部(12)，所述實心部(12)之間形成所述開口，一對所述實心部(12)分別與所述片狀陰極的上下兩端部對應設置。

4.根據(jù)權利要求2所述的遮蔽組件，其特征在于，所述陰極件(61)為陰極板，所述遮蔽單元(1)還包括框體(13)，所述框體(13)的四條邊框內分別形成有所述實心部(12)，四個所述實心部(12)之間形成所述開口，四個所述實心部(12)分別與所述陰極板的四條邊對應設置。

5.根據(jù)權利要求4所述的遮蔽組件，其特征在于，所述陰極板為不銹鋼板或純銅板，所述待蝕刻件(62)為PCB板。

6.根據(jù)權利要求3或4所述的遮蔽組件，其特征在于：所述開口處覆蓋有允許金屬離子單向流動的離子膜(14)或濾布。

7.根據(jù)權利要求6所述的遮蔽組件，其特征在于，所述框體(13)上還設有與電解槽側壁連接的固定連接件。

8.根據(jù)權利要求7所述的遮蔽組件，其特征在于，所述固定連接件包括設于所述邊框的對應兩條邊外的限位塊(3)，以及設于電解槽側壁上的適于所述限位塊(3)卡入的鎖緊槽。

9.根據(jù)權利要求7所述的遮蔽組件，其特征在于：所述固定連接件包括分別設于所述邊框和電解槽側壁上的互相鎖緊的鎖緊扣。

10.一種電解裝置，其包括：

電解槽(6)，所述電解槽(6)中容納有電解液；

伸入所述電解液中的陰極件(61)和待蝕刻件(62)，所述待蝕刻件(62)與陽極(63)導線連接；

以及遮蔽組件，為如權利要求1-9任意一項所述的遮蔽組件，設于所述陰極與所述待蝕刻件(62)之間。

11.根據(jù)權利要求10所述的電解裝置，其特征在于，所述待蝕刻件(62)為PCB板。