[發明專利]極紫外光微影收集器的清潔方法在審
| 申請號： | 201910814730.8 | 申請日： | 2019-08-30 |
| 公開（公告）號： | CN110874024A | 公開（公告）日： | 2020-03-10 |
| 發明（設計）人： | 訾安仁;林進祥;張慶裕 | 申請（專利權）人： | 臺灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;B08B3/08 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國 |
| 地址： | 中國臺灣新竹市*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 紫外光 收集 清潔 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種極紫外光微影收集器的清潔方法，其特征在于，該方法包含：
對一極紫外光輻射源反應室中的該極紫外光微影收集器的一表面施加一清潔化合物，該極紫外光微影收集器具有多個殘余物在該極紫外光微影收集器的該表面上，
其中該清潔化合物包含：具25>δd>15、25>δp>10、與30>δh>6的多個漢森溶解度參數的一主要溶劑；以及具-15<pKa<4的一酸解離常數pKa的酸；
從該極紫外光微影收集器的該表面移除所述多個殘余物；以及
從該極紫外光輻射源反應室移除該清潔化合物。
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