[發明專利]顯示面板、顯示裝置及顯示面板的制作方法有效
| 申請號: | 201910801010.8 | 申請日: | 2019-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN110600513B | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發明(設計)人: | 王雷;陳澤升 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32 |
| 代理公司: | 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300 | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示 面板 顯示裝置 制作方法 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:
源漏極層;
第一平坦層,設于所述源漏極層上;
第二平坦層,圖樣化設于所述第一平坦層上;所述第二平坦層具有遮光結構及由所述遮光結構圍繞形成的第一凹槽;所述第二平坦層的厚度為1um-1.5um;
陽極層,設于所述第二平坦層上;所述陽極層完全覆蓋所述第一凹槽并延伸部分覆蓋所述第二平坦層;
發光功能層,設于所述第一凹槽內的所述陽極層上;以及
陰極層,設于所述第一凹槽內的所述發光功能層上;
其中,覆蓋所述第一凹槽的第一斜面的所述陽極層與其相鄰的所述發光功能層之間的距離為1um-2um;所述第一凹槽的第一斜面與所述第一平坦層上表面形成的夾角為45°-55°,所述第一斜面為所述第二平坦層形成的斜面。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,還包括:
像素定義層,設于所述第二平坦層和所述陽極層上;所述第一凹槽在部分填充所述像素定義層后形成第二凹槽,所述第二凹槽環繞所述第一凹槽設置并在所述第二凹槽的底面裸露所述陽極層;
其中,所述發光功能層,設于所述第二凹槽內的所述陽極層上;
所述陰極層,設于所述第二凹槽內的所述發光功能層上。
3.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第二凹槽的第二斜面與所述陽極層上表面形成的夾角為45°-55°,所述第二斜面為所述像素定義層形成的斜面。
4.根據權利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第一凹槽或所述第二凹槽的截面形狀為倒梯形。
5.一種權利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,包括步驟:
制作一源漏極層;
制作第一平坦層,在所述源漏極層上制作第一平坦層;
制作第二平坦層,在所述第一平坦層上制作第二平坦層并圖樣化;圖樣化后的所述第二平坦層具有遮光結構及由所述遮光結構圍繞形成的第一凹槽;
制作陽極層,在所述第二平坦層上制作陽極層;所述陽極層完全覆蓋所述第一凹槽并延伸部分覆蓋所述第二平坦層;
制作發光功能層,在所述第一凹槽內的所述陽極層上制作發光功能層;以及
制作陰極層,在所述第一凹槽內的所述發光功能層上制作陰極層。
6.根據權利要求5所述顯示面板的制作方法,其特征在于,在制作陽極層步驟之后以及在制作發光功能層步驟之前還包括:
制作像素定義層,在所述第二平坦層和所述陽極層上制作像素定義層;所述第一凹槽在部分填充所述像素定義層后形成第二凹槽,所述第二凹槽環繞所述第一凹槽設置并在所述第二凹槽的底面裸露所述陽極層;
其中,所述發光功能層設于所述第二凹槽內的所述陽極層上;所述陰極層設于所述第二凹槽內的所述發光功能層上。
7.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1-4中任一項所述的顯示面板。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





