[發明專利]高精度全自動雙面曝光機

在審

• 申請號: 201910795902.1
• 申請日: 2019-08-27
• 公開（公告）號: CN110376853A
• 公開（公告）日: 2019-10-25
• 發明（設計）人: 李明之;朱偉杰;李壯
• 申請（專利權）人: 愛司凱科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 杭州君度專利代理事務所(特殊普通合伙) 33240
• 代理人: 王桂名

1.一種高精度全自動雙面曝光機，其特征在于：其包括

機架，用于支撐安裝曝光機中的各個模塊和系統；

上框系統，位于機架內部，包括為產品上表面曝光提供圖案的上掩膜板；

對準系統，包括為產品下表面曝光提供圖案的下掩膜板，對準系統用于實現上掩膜版和下掩膜版的精確對準，對準系統設于上框系統的下方；

進出料系統，包括進料系統和出料系統，用于對產品的自動進料和自動出料；

機械手系統，設于進出料系統上方，用于將待曝光的產品從進料系統中搬運到對準系統上，將曝光完成的產品從對準系統搬運到出料系統中；

視覺系統，位于對準系統下方，為對準系統提供對準所需的位移量；

曝光模塊，包括上曝光模塊和下曝光模塊，上曝光模塊安裝在上框系統的上方，為產品上表面曝光提供光源，下曝光模塊設于對準系統下方，為產品下表面曝光提供光源；

恒溫恒濕模塊，安裝在機架上，用于控制曝光機內的溫度和濕度；

控制系統，用于控制上框系統、對準系統、進出料系統、機械手系統、視覺系統、曝光模塊和恒溫恒濕模塊的協調運行。

2.根據權利要求1所述的高精度全自動雙面曝光機，其特征在于：所述的進料系統和出料系統分別包括第一支架、無桿氣缸、滑臺、滑軌、光電傳感器、升降氣缸和平臺機構，所述的第一支架固定在機架上，滑軌安裝在第一支架的兩側，無桿氣缸安裝在第一支架上，所述的滑臺的兩側與滑軌滑動連接，滑臺與無桿氣缸傳動連接；所述的升降氣缸固定在第一支架上，光電傳感器設于升降氣缸一側；所述的平臺機構包括送料平臺、步進電機、絲桿、直線光軸、緩沖支角和緩沖支角安裝座；所述的送料平臺底部設有連接軸，滑臺頂部設有軸承，送料平臺通過連接軸安裝在軸承內，且與升降氣缸連接；所述的步進電機、絲桿和直線光軸安裝在送料平臺的底部，步進電機與絲桿傳動連接，直線光軸位于絲桿的兩側，緩沖支角安裝座套設在直線光軸上且與絲桿連接，所述的緩沖支角穿過送料平臺固定在緩沖支角安裝座的兩端。

3.根據權利要求1所述的高精度全自動雙面曝光機，其特征在于：所述的機械手系統包括X軸搬運機構和兩個搬運吸盤機構；所述的搬運吸盤機構安裝在X軸搬運機構上；所述的X軸搬運機構包括X軸支架、兩個直線電機定子、兩個直線電機動子和X軸直線導軌，所述的X軸支架固定在機架上，X軸直線導軌安裝在X軸支架上方，直線電機定子安裝在X軸支架側部，直線電機動子安裝在直線電機定子上；所述的吸盤機構包括吸盤安裝架、移動座、真空發生器、真空電磁閥和吸盤；所述的移動座與直線電機動子連接且與X軸直線導軌滑動連接；吸盤安裝架固定在移動座上，吸盤固定在吸盤安裝架底部，真空發生器通過真空電磁閥與吸盤連接。

4.根據權利要求1所述的高精度全自動雙面曝光機，其特征在于：所述的上框系統包括第二支架、外框、內框、上框氣缸、鋼板壓條、彈簧鋼板、上掩膜版和上掩膜版壓板；所述的第二支架位于外框的兩側且固定在機架上，上框氣缸固定在第二支架上，上框氣缸的缸桿與外框連接，內框設于外框內，內框的四周通過四片兩兩對稱的彈簧鋼板與外框連接，并通過鋼板壓條固定；所述的上掩膜版通過上掩膜版壓板固定在內框的內部，外框的兩側通過轉軸組件與第二支架連接。