[發明專利]高精度全自動雙面曝光機

在審

• 申請號: 201910795902.1
• 申請日: 2019-08-27
• 公開（公告）號: CN110376853A
• 公開（公告）日: 2019-10-25
• 發明（設計）人: 李明之;朱偉杰;李壯
• 申請（專利權）人: 愛司凱科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 杭州君度專利代理事務所(特殊普通合伙) 33240
• 代理人: 王桂名

本發明涉及一種高精度全自動雙面曝光機，其包括機架，用于支撐安裝曝光機中的各個模塊和系統；上框系統，位于機架內部，包括為產品上表面曝光提供圖案的上掩膜板；對準系統，包括為產品下表面曝光提供圖案的下掩膜板，對準系統用于實現上掩膜版和下掩膜版的精確對準，對準系統設于上框系統的下方；進出料系統，包括進料系統和出料系統，用于對產品的自動進料和自動出料；機械手系統；視覺系統；曝光模塊；恒溫恒濕模塊；控制系統。本發明通過對準系統和視覺系統實現雙面曝光機上下掩膜版的對準，能夠防止曝光時圖案錯位，提高曝光質量，通過對準單元能夠完成多方向和角度的調整，對準精度高。

技術領域

本發明屬于曝光機技術領域，尤其涉及一種高精度全自動雙面曝光機。

背景技術

紫外線曝光機是指通過開啟燈光發出UVA波長的紫外線，將膠片或其他透明體上的圖像信息轉移到涂有感光物質的表面上的機器設備，曝光機具有單面曝光機和雙面曝光機。

中國專利CN106547174B公開了一種全自動雙面曝光機包括機臺，于同一軸線上依次設置入料區、第一面曝光區、轉移翻板區、第二面曝光區以及出料區；其設有進料轉移機構，第一曝光機構，轉移翻板機構，跨設于轉移翻板區域第一面曝光區上方，并將完成第一面曝光的板件由第一面曝光區移載至轉移翻板區，并將完成第一面曝光的板件由第一面翻轉至第二面，出料轉移機構，第二曝光機構，通過將第一面曝光區和第二面曝光區橫向設置，可以有效的減少雙面自動曝光機的長度，且可以通過橫向移動第一曝光平臺或第二曝光平臺實現曝光的操作。

中國專利CN108255029A公開了一種雙面曝光機及其曝光方法，包括第一曝光機構、第二曝光機構和翻轉機構，所述第一曝光機構包括第一曝光裝置和滑動設置于第一曝光裝置下方的第一曝光平臺，所述第一曝光平臺設置有第一攝像對位裝置，所述第二曝光機構包括第二曝光裝置和滑動設置于第二曝光裝置下方的第二曝光平臺，所述第二曝光平臺設置有第二攝像對位裝置。

上述兩個發明專利中的雙面曝光機均通過工件的翻轉實現雙面曝光，而且每次曝光必須要翻轉，工作程序冗雜，效率低下。同時采用翻轉機構必然導致設備體積增大，而且對于曝光圖案與工件上下兩個面的對準控制精度不高。

發明內容

本發明的目的在于針對上述缺陷，提供一種自動化程度高、效率高，曝光精確的高精度全自動雙面曝光機。

為了達到目的，本發明提供的技術方案為：

本發明涉及的一種高精度全自動雙面曝光機，其包括

機架，用于支撐安裝曝光機中的各個模塊和系統；

上框系統，位于機架內部，包括為產品上表面曝光提供圖案的上掩膜板；

對準系統，包括為產品下表面曝光提供圖案的下掩膜板，對準系統用于實現上掩膜版和下掩膜版的精確對準，對準系統設于上框系統的下方；

進出料系統，包括進料系統和出料系統，用于對產品的自動進料和自動出料；

機械手系統，設于進出料系統上方，用于將待曝光的產品從進料系統中搬運到對準系統上，將曝光完成的產品搬運到出料系統中；

視覺系統，位于對準系統下方，為對準系統提供對準所需的位移量；

曝光模塊，包括上曝光模塊和下曝光模塊，上曝光模塊安裝在上框系統的上方，為產品上表面曝光提供光源，下曝光模塊設于對準系統下方，為產品下表面曝光提供光源；

恒溫恒濕模塊，安裝在機架上，控制曝光機內的溫度和濕度；

控制系統，用于控制上框系統、對準系統、進出料系統、機械手系統、視覺系統、曝光模塊和恒溫恒濕模塊的協調運行。