[發明專利]應用于刻蝕機臺分氣盤安裝的安裝件及分氣盤的安裝方法

有效

• 申請號: 201910788114.X
• 申請日: 2019-08-26
• 公開（公告）號: CN110504151B
• 公開（公告）日: 2022-02-01
• 發明（設計）人: 鄧必文
• 申請（專利權）人: 上海華力集成電路制造有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/67
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 張彥敏

本發明涉及應用于刻蝕機臺分氣盤安裝的安裝件及分氣盤的安裝方法，涉及半導體生產設備，通過設計一安裝件，安裝件的上環部的內側壁上包括多個定位部件，安裝時將定位部分與分氣盤上靠近分氣盤外圍的螺絲孔一一對應，并與分氣盤固定盤上的螺絲孔一一對應，而將分氣盤上的螺絲孔精確對準分氣盤固定盤上的螺絲孔，并在安裝分氣盤之前先放好安裝件，然后根據定位部件直接放入分氣盤可快速安裝，預計時間可以節省50分鐘；并安裝分氣盤時，分氣盤與外圍環形結構之間的間隙已經被安裝件填滿，因此分氣盤不會上下左右移動，確保螺絲孔對齊，成功率可高達100％，并能節約保養時間，提高保養效率，并可減少晶圓的缺陷，延長腔體維護周期，增加FAB產能。

技術領域

本發明涉及半導體生產設備，尤其涉及一種應用于刻蝕機臺分氣盤安裝的安裝件及分氣盤的安裝方法。

背景技術

刻蝕機臺如氧化膜刻蝕機臺是晶圓加工的重要工藝機臺。中微DRIE系列是中微公司推出的用于氧化膜刻蝕的主力機臺，是晶圓加工的重要工藝機臺。請參閱圖1，圖1為中微DRIE系列氧化膜刻蝕機臺的DRIE腔體結構示意圖，如圖1所示，DRIE腔體結構設計精密復雜，在12寸及以上晶圓加工技術中，隨著晶圓面積增大，為了更好的控制刻蝕均勻度，上腔體使用到了分氣盤。上腔體結構由氣體擋板(gas baffle)101、隔離環(isolation ring)102、分氣盤103、環形結構104、蓋環(cover ring)105、聚焦環(focus ring)106、上接地環(top ground ring)107、FEIS環108、中間接地環(middle ground ring)109和絕緣環(insulator ring)110等組成中，工藝氣體通過分氣盤均勻地作用于晶圓。一般，分氣盤103上有16個螺絲孔，可參閱圖2，圖2為分氣盤的示意圖。上腔體通過螺絲孔用鋁質螺絲將分氣盤103與上腔體中的分氣盤固定盤200(圖中未示出，其實際位于隔離環102內)固定連接，可參閱圖3a和圖3b，圖3a為分氣盤固定盤的背面示意圖，圖3b為分氣盤固定盤的正面示意圖，如圖3a和3b所示，分氣盤固定盤200上包括與分氣盤103上的螺絲孔對應的螺絲孔。在安裝過程中，請參閱圖4a-4b，圖4a-4b為分氣盤的安裝過程示意圖，如圖4a所示，先使用螺絲穿過分氣盤固定盤200上的螺絲孔；然后，如圖4b所示，將分氣盤103上的螺絲孔大概位置對準分氣盤固定盤200上的對應的螺絲孔，慢慢推入；然后，用手扶住分氣盤103，詳細調整以將分氣盤103上的所有螺絲孔與分氣盤固定盤200上所有的螺絲孔對應；然后，擰緊所有的螺絲，以固定分氣盤103。另請參閱圖5，圖5為分氣盤安裝完成后標準示意圖，如圖5所示，分氣盤103與環形結構104之間包括間隙300，安裝分氣盤103時，因為是垂直安裝，受重力影響，因此分氣盤103始終是與環形結構邊緣接觸，并且需要用手托住，費時費力。安裝時，分氣盤103上的螺絲孔1031與分氣盤固定盤200螺絲孔位不能準確對齊，需要花最少2個小時時間，且如果螺絲孔未對齊，安裝時螺絲會滑牙導致分氣盤報廢，延長保養時間，損失巨大。

發明內容

本發明的目的在于提供一種應用于刻蝕機臺分氣盤安裝的安裝件，可使分氣盤快速安裝，并提高成功率，因此能節約保養時間，提高保養效率，并可減少晶圓的缺陷，延長腔體維護周期，增加FAB產能。

本發明提供的應用于刻蝕機臺分氣盤安裝的安裝件，氧化膜刻蝕機臺的分氣盤包括多個螺絲孔，其中部分螺絲孔靠近分氣盤的外圍，在分氣盤固定盤上對應分氣盤上的靠近分氣盤外圍的螺絲孔的位置亦包括多個螺絲孔，多個螺絲穿過分氣盤上的螺絲孔和分氣盤固定盤上的螺絲孔以將分氣盤固定至分氣盤固定盤上，其中安裝件包括：上環部、下環部和連接上環部與下環部的中間連接部，其中上環部、下環部和中間連接部均具有內側壁和外側壁而構成一中空結構，該中空結構包括中空部，該中空部用于容納分氣盤，且上環部的內側壁上包括多個定位部件，其中定位部件的個數不大于分氣盤上靠近分氣盤的外圍的螺絲孔的個數。

更進一步的，安裝件的上環部的外徑d1為333.4±0.5mm,上環部的側壁厚度為2±0.2mm,高度為10±0.5mm。