[發明專利]一種旋涂裝置

有效

• 申請號: 201910780809.3
• 申請日: 2019-08-22
• 公開（公告）號: CN110560282B
• 公開（公告）日: 2020-12-29
• 發明（設計）人: 楊進;郜晨希;劉金虎
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: B05B3/10
• 分類號: B05B3/10;B05B13/02
• 代理公司: 北京華沛德權律師事務所 11302
• 代理人: 房德權

本發明公開了一種旋涂裝置，屬于表面涂覆技術領域，通過電機，所述電機具有一豎直方向上設置的轉動軸；樣片托盤，所述樣片托盤位于所述轉動軸的頂端；轉盤，所述轉盤設置在所述樣片托盤的下方，且所述轉盤與所述樣片托盤之間具有第一預設距離；腔室，所述腔室設置在所述轉盤的下方，且所述腔室與所述轉盤之間具有第二預設距離；彈性件，所述彈性件設置在所述腔室的底端，且所述彈性件套設在所述轉動軸外部，從而解決了現有技術中旋涂設備的密封性隨著電機的高速旋轉，經常有漏氣情況發生的技術問題，達到了提高旋涂設備的密封能力和可靠性，提高整機氣路的暢通，提高樣片在設備中的吸附能力，延長設備使用壽命的技術效果。

技術領域

本發明涉及表面涂覆技術領域，特別涉及一種旋涂裝置。

背景技術

旋涂是在高速旋轉的固體表面通過離心作用將具有一定黏度的液態功能材料均勻地涂覆上，通過調節離心旋轉速度和反應時間來實現所要求的厚度、均勻性和一致性；在樣片高速旋轉的情況下，樣片通過外接真空泵在氣路通道內形成負壓，將樣片緊緊吸附在樣片托上，從而滿足整個涂膠工藝工程。因此氣路的密封性決定樣片是否能緊密貼合，在高速旋轉下是否穩定吸附的關鍵。

現有密閉氣路的機構中，下密封環結構僅僅采用凸起結構直接與電機平臺硬連接，密封性會隨著電機的高速旋轉，經常有漏氣情況發生。

發明內容

本發明提供了一種旋涂裝置，解決了現有技術中旋涂設備的密封性隨著電機的高速旋轉，經常有漏氣情況發生的技術問題，達到了提高旋涂設備的密封能力和可靠性，提高整機氣路的暢通，提高樣片在設備中的吸附能力，延長設備使用壽命的技術效果。

本發明提供了一種旋涂裝置，包括：電機，所述電機具有一豎直方向上設置的轉動軸；樣片托盤，所述樣片托盤位于所述轉動軸的頂端；轉盤，所述轉盤設置在所述樣片托盤的下方，且所述轉盤與所述樣片托盤之間具有第一預設距離；腔室，所述腔室設置在所述轉盤的下方，且所述腔室與所述轉盤之間具有第二預設距離；彈性件，所述彈性件設置在所述腔室的底端，且所述彈性件套設在所述轉動軸外部。

優選的，還包括：第一密封件，所述第一密封件設置在所述腔室的頂端；第二密封件，所述第二密封件設置在所述腔室的底端與所述彈性件之間。

優選的，所述第一密封件、第二密封件、腔室、彈性件均通過所述轉動軸與所述電機固定連接。

優選的，所述第一密封件和所述第二密封件均為黃銅圈。

優選的，所述腔室的一側壁上垂直向外延伸出一圓筒結構，且所述圓筒結構為L型結構，或，一字型結構。

優選的，所述樣片托盤的中心位置處開設有一通孔，且所述樣片托盤上以所述通孔為中心開設有多個半環形氣路槽。

優選的，所述樣片托盤上開設有一凹槽，且所述凹槽的寬度范圍為1～2mm，其中，通過所述凹槽以使多個所述半環形氣路槽均與所述通孔相連通。

優選的，所述樣片托盤外側邊部位置處開設有一環形平臺，且所述環形平臺的寬度范圍為2～4mm。

優選的，所述轉盤上開設有兩個氣路通道，且，所述轉盤上相對開設有兩個平衡孔，其中，兩個所述平衡孔之間的連線與兩個所述氣路通道的中心線相垂直，以使高速旋轉時兩個所述氣路通道的動平衡與受力均勻。

優選的，所述彈性件為彈簧。

本發明實施例中的上述一個或多個技術方案，至少具有如下一種或多種技術效果：