[發明專利]半導體裝置在審
| 申請號: | 201910773719.1 | 申請日: | 2019-08-21 |
| 公開(公告)號: | CN111725186A | 公開(公告)日: | 2020-09-29 |
| 發明(設計)人: | 后藤善秋 | 申請(專利權)人: | 東芝存儲器株式會社 |
| 主分類號: | H01L25/065 | 分類號: | H01L25/065;H01L23/49 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 楊林勳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 半導體 裝置 | ||
實施方式的半導體裝置具有:襯底;第1半導體元件設置在襯底上的第1樹脂組合物上;第2半導體元件設置在襯底上的第2樹脂組合物上;第3半導體元件設置在襯底上,且夾于第1半導體元件與第2半導體元件之間;第1配線層設置在第1半導體元件上,與第1半導體元件連接,且利用第1接合線與襯底連接;第4半導體元件設置在第1配線層上,且利用第2接合線與第1配線層連接;第2配線層設置在第2半導體元件上,與第2半導體元件連接,且利用第3接合線與襯底連接。第1接合線設置在第1配線層的除與朝向第2配線層的一側為相反側以外的部分。第3接合線設置在第2配線層的除與朝向第1配線層的一側為相反側以外的部分。
[相關申請]
本申請基于2019年3月22日提出申請的先前日本專利申請第2019-054415號的優先權利益且追求該利益,其全部內容是通過引用而包含在本文中。
技術領域
此處所說明的多種實施方式全部涉及一種半導體裝置。
背景技術
對于使用了存儲器芯片的半導體裝置,正研究各種封裝體布局。存儲器的半導體裝置被要求大容量化、小型化或讀寫高速化等特性。
當想要使利用了存儲器芯片的半導體裝置高速化時,控制器芯片容易變大。當想要將更多存儲器芯片呈階梯狀積層以實現大容量化時,配置控制器芯片及存儲器芯片的平面空間會變寬。在想要使存儲器芯片的設計規則變得嚴格(使配線寬度變窄),而增大平均每一個存儲器芯片的存儲容量的情況下,也有平均每一個芯片大小比以往大的情況。
因此,當不使半導體裝置的封裝體大小變大而使芯片大小變大時,有難以將控制器芯片與存儲器芯片平面地配置于襯底上的情況。也想到如下情況:以控制器芯片與存儲器芯片不干涉的方式,將外形尺寸比存儲器芯片小的間隔芯片貼附在襯底,將存儲器芯片配置在比控制器芯片高的位置。
然而,所述情況需要于對鏡面晶圓進行BSG(Back Side grinding,背面研磨)加工,并貼附裸片粘結膜之后,將間隔芯片呈所需大小切下,并貼附于襯底等的步驟,所以半導體裝置的制造費用提高。在搭載相同存儲器芯片片數的情況下,相應于間隔芯片的高度,半導體裝置變厚,而難以薄型化。控制器芯片由于比存儲器芯片小,所以在使用間隔芯片的情況下,存儲器芯片間會出現空余空間。空間效率上不利且難以小型化。
發明內容
本發明的實施方式有助于半導體裝置的小型化、薄型化。
實施方式的半導體裝置具有:襯底;第1半導體元件,設置在襯底上的第1樹脂組合物上;第2半導體元件,設置在襯底上的第2樹脂組合物上;第3半導體元件,設置在襯底上,且夾于第1半導體元件與第2半導體元件之間;第1配線層,設置在第1半導體元件上,與第1半導體元件連接,且利用第1接合線與襯底連接;第4半導體元件,設置在第1配線層上,利用第2接合線與第1配線層連接;第2配線層,設置在第2半導體元件上,與第2半導體元件連接,且利用第3接合線與襯底連接;及第5半導體元件,設置在第2配線層上,且利用第4接合線與第2配線層連接。第1接合線設置在第1配線層的除與朝向第2配線層的一側為相反側以外的部分。第3接合線設置在第2配線層的除與朝向第1配線層的一側為相反側以外的部分。
根據上述構成,可實現半導體裝置的小型化、薄型化。
附圖說明
圖1是實施方式的半導體裝置的剖視圖。
圖2是實施方式的半導體裝置的配線示意圖。
圖3是實施方式的半導體裝置的剖視圖。
具體實施方式
以下,參照附圖對實施方式進行說明。
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