[發明專利]施工于持力層的獨立基礎及其施工方法

有效

• 申請號: 201910769128.7
• 申請日: 2019-08-20
• 公開（公告）號: CN110485452B
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 陳鵬;林志;石鵬;陳波林;何為;陳波
• 申請（專利權）人: 中國建筑第八工程局有限公司
• 主分類號: E02D27/00
• 分類號: E02D27/00
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司 31229
• 代理人: 王紅藝

本發明涉及一種施工于持力層的獨立基礎及其施工方法，其中獨立基礎包括：澆筑于超挖基坑內的主體結構，主體結構的四周側壁和超挖基坑對應的內側壁之間留設形成有回填空間；設于主體結構的頂面且位于對應邊沿的多個墊塊；現澆于超挖基坑對應邊沿的地面上的多個找平墊塊，找平墊塊的頂面和墊塊的頂面齊平；填充于回填空間內且頂面和墊塊的頂面齊平的回填層；供支撐地坪的多個支撐梁，支撐梁的相對兩端支設于墊塊和對應的找平墊塊。利用墊塊頂面作為參照標準，現澆形成找平墊塊，從而支撐梁能夠水平設置，彌補了超挖基坑的周邊的地面受開挖影響而不一定水平的不足。利用支撐梁支撐地坪。

技術領域

本發明涉及建筑施工領域，尤指一種施工于持力層的獨立基礎及其施工方法。

背景技術

建筑物上部結構采用框架結構或單層排架結構承重時，其基礎常采用方形、圓形等形式的獨立基礎。獨立基礎坐落于持力層上，持力層一般為中風化或強風化的巖層，巖層開挖深度不容易控制，挖一處往往會帶起一大片巖石，產生超挖現象。當發生超挖現象時，位于施工于持力層的獨立基礎周圍回填層上的地坪易發生沉降。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的缺陷，提供一種施工于持力層的獨立基礎及其施工方法，解決現有技術中獨立基礎周圍回填層上的地坪易發生沉降的問題。

實現上述目的的技術方案是：

本發明提供一種施工于持力層的獨立基礎，澆筑于開挖于持力層內的超挖基坑中，所述獨立基礎包括：

澆筑于所述超挖基坑內的主體結構，所述主體結構的四周側壁和所述超挖基坑對應的內側壁之間留設形成有回填空間；

設于所述主體結構的頂面且位于對應邊沿的多個墊塊；

現澆于所述超挖基坑對應邊沿的地面上的多個找平墊塊，所述找平墊塊的頂面和所述墊塊的頂面齊平；

填充于所述回填空間內且頂面和所述墊塊的頂面齊平的回填層；以及

供支撐地坪的多個支撐梁，所述支撐梁的相對兩端支設于所述墊塊和對應的所述找平墊塊。

本發明施工于持力層的獨立基礎及其施工方法的有益效果：

本發明通過在主體結構的頂面且位于對應邊沿的位置設置多個墊塊，利用主體結構和墊塊的水平設置的頂面作為參照標準，所述超挖基坑對應邊沿的地面上現澆形成找平墊塊，找平墊塊的頂面和墊塊的頂面齊平，從而可使得后續施工于墊塊和找平墊塊的支撐梁能夠水平設置，彌補了現有技術中開挖形成超挖基坑的過程中，超挖基坑的周邊的地面受開挖影響而不一定水平的不足。通過在墊塊和找平墊塊上澆筑形成多個支撐梁，利用支撐梁起到支撐地坪的作用，可保證地坪的穩定性，能夠解決現有技術中直接將地坪鋪設于回填層上容易造成地坪下陷的問題。

本發明施工于持力層的獨立基礎的進一步改進在于，還包括填設于所述回填層上且位于相鄰兩個所述支撐梁之間的后回填層，所述后回填層的頂面和所述支撐梁的頂面齊平。

本發明施工于持力層的獨立基礎的進一步改進在于，所述回填層和所述后回填層為素土層。

本發明施工于持力層的獨立基礎的進一步改進在于，所述主體結構包括：

澆筑于所述超挖基坑內的墊層，所述墊層的四周側壁和所述超挖基坑對應的內壁之間形成有所述回填空間；以及

澆筑于所述墊層上的基礎層，所述基礎層的底面積小于所述墊層的頂面積。

本發明提供一種施工于持力層的獨立基礎的施工方法，所述方法包括：

開挖持力層形成超挖基坑；

在所述超挖基坑內澆筑形成主體結構，所述主體結構的四周側壁和所述超挖基坑對應的內側壁之間留設形成有回填空間；