[發明專利]施工于持力層的獨立基礎及其施工方法

有效

• 申請號: 201910769128.7
• 申請日: 2019-08-20
• 公開（公告）號: CN110485452B
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 陳鵬;林志;石鵬;陳波林;何為;陳波
• 申請（專利權）人: 中國建筑第八工程局有限公司
• 主分類號: E02D27/00
• 分類號: E02D27/00
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司 31229
• 代理人: 王紅藝

1.一種施工于持力層的獨立基礎，澆筑于開挖于持力層內的超挖基坑中，其特征在于，所述獨立基礎包括：澆筑于所述超挖基坑內的主體結構，所述主體結構的四周側壁和所述超挖基坑對應的內側壁之間留設形成有回填空間；設于所述主體結構的頂面且位于邊沿的多個墊塊；現澆于所述超挖基坑邊沿的地面上的多個找平墊塊，所述找平墊塊的頂面和所述墊塊的頂面齊平；填充于所述回填空間內且頂面和所述墊塊的頂面齊平的回填層；以及供支撐地坪的多個支撐梁，所述支撐梁的相對兩端支設于所述墊塊和對應的所述找平墊塊。

2.如權利要求1所述的施工于持力層的獨立基礎，其特征在于，還包括填設于所述回填層上且位于相鄰兩個所述支撐梁之間的后回填層，所述后回填層的頂面和所述支撐梁的頂面齊平。

3.如權利要求2所述的施工于持力層的獨立基礎，其特征在于，所述回填層和所述后回填層為素土層。

4.如權利要求1所述的施工于持力層的獨立基礎，其特征在于，所述主體結構包括：澆筑于所述超挖基坑內的墊層，所述墊層的四周側壁和所述超挖基坑對應的內壁之間形成有所述回填空間；以及澆筑于所述墊層上的基礎層，所述基礎層的底面積小于所述墊層的頂面積。

5.一種施工于持力層的獨立基礎的施工方法，其特征在于，所述方法包括：

開挖持力層形成超挖基坑；在所述超挖基坑內澆筑形成主體結構，所述主體結構的四周側壁和所述超挖基坑對應的內側壁之間留設形成有回填空間；在所述主體結構的頂面且位于邊沿處設置多個墊塊；在所述超挖基坑邊沿的地面上澆筑形成多個找平墊塊，使得所述找平墊塊的頂面和所述墊塊的頂面齊平；在所述回填空間內填充形成頂面和所述墊塊的頂面齊平的回填層；以及澆筑形成供支撐地坪的多個支撐梁，所述支撐梁的相對兩端分別支設于所述墊塊和對應的所述找平墊塊。

6.如權利要求5所述的施工于持力層的獨立基礎的施工方法，其特征在于，

還包括在所述回填層上填設形成位于相鄰兩個所述支撐梁之間的后回填層，所述后回填層的頂面和所述支撐梁的頂面齊平。

7.如權利要求5所述的施工于持力層的獨立基礎的施工方法，其特征在于，于超挖基坑內澆筑形成主體結構包括：提供墊層模板，將所述墊層模板立設于所述超挖基坑內，所述墊層模板的四周側壁和所述超挖基坑對應的內壁之間形成有所述回填空間；于所述墊層模板圍合區內澆筑形成墊層；提供基礎模板，將所述基礎模板立設于所述墊層的頂面且靠近對應的邊沿；以及于所述基礎模板圍合區內澆筑形成基礎層。

8.如權利要求5所述的施工于持力層的獨立基礎的施工方法，其特征在于，

澆筑形成供支撐地坪的多個支撐梁，包括提供多個梁模板，將所述梁模板支設于所述墊塊和所述找平墊塊，于所述梁模板上澆筑形成支撐梁。