[發明專利]防反射膜、防反射膜的制造方法、光學構件及圖像顯示裝置

有效

• 申請號: 201910758363.4
• 申請日: 2019-08-16
• 公開（公告）號: CN110895356B
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 橋本尚樹;茂手木佑輔;濟木雄二
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02B1/14;G02F1/1335;H01L27/32
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗

本發明提供耐擦傷性優異的防反射膜。其特征在于，在透光性基材(A)的至少一個面上以下述順序層疊有硬涂層(B)及防反射層(C)，構成防反射層(C)的元素至少包含碳及氟，通過X射線光電分光法而測定的防反射層(C)的原子數在與硬涂層(B)相反側的表面滿足下述數學式(1)及(2)，并且在距離上述表面的深度為15～30nm的范圍內滿足下述數學式(3)，7≤[(n_F/n_total)×100]≤27 (1);30≤[(n_c/n_total)×100]≤41 (2);[(n_F/n_total)×100]≤0.5 (3);其中，n_total為碳、氮、氧、硅及氟的原子數的合計，n_F為氟原子數，n_c為碳原子數。

技術領域

本發明涉及防反射膜、防反射膜的制造方法、光學構件及圖像顯示裝置。

背景技術

在液晶顯示裝置(LCD)、等離子體顯示器面板(PDP)及電致發光顯示器(ELD)等圖像顯示裝置的最表面，為了防止因外界光的反射或圖像的映入而引起的對比度降低，使用了防眩性膜或防反射膜等。有許多對于防反射膜記載的文獻，例如有專利文獻1～3等。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2004-34002號公報

專利文獻2：日本特開2003-315505號公報

專利文獻3：日本特開2003-126768號公報

發明內容

發明所要解決的課題

從良好的光學特性的觀點出發，防反射膜需要不易損傷、即耐擦傷性優異。然而，防反射膜表面容易損傷，難以得到優異的耐擦傷性。

于是，本發明的目的是提供耐擦傷性優異的防反射膜。進而，本發明的目的是提供上述防反射膜的制造方法、使用了上述防反射膜的光學構件、使用了上述防反射膜的圖像顯示裝置。

用于解決課題的手段

為了達成上述目的，本發明的防反射膜的特征在于，其包含透光性基材(A)、硬涂層(B)和防反射層(C)，

在上述透光性基材(A)的至少一個面上按照上述順序層疊有上述硬涂層(B)及上述防反射層(C)，

構成上述防反射層(C)的元素至少包含碳及氟，

通過X射線光電分光法而測定的上述防反射層(C)的原子數在與上述硬涂層(B)相反側的表面滿足下述數學式(1)及(2)，并且在距離上述表面的深度為15～30nm的范圍內滿足下述數學式(3)。

7≤[(n_F/n_total)×100]≤27 (1)

30≤[(n_c/n_total)×100]≤41 (2)

[(n_F/n_total)×100]≤0.5 (3)

上述數學式(1)～(3)中，n_total為碳、氮、氧、硅及氟的原子數的合計，n_F為氟原子數，n_c為碳原子數。

本發明的防反射膜的制造方法為上述本發明的防反射膜的制造方法，其特征在于，包括在上述透光性基材(A)與上述硬涂層(B)的層疊體中的上述硬涂層(B)上按照滿足上述數學式(1)～(3)的方式形成上述防反射層(C)的防反射層(C)形成工序，