[發明專利]防反射膜、防反射膜的制造方法、光學構件及圖像顯示裝置

有效

• 申請號: 201910758363.4
• 申請日: 2019-08-16
• 公開（公告）號: CN110895356B
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發明（設計）人: 橋本尚樹;茂手木佑輔;濟木雄二
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02B1/14;G02F1/1335;H01L27/32
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 白麗

1.一種防反射膜，其特征在于，其包含透光性基材(A)、硬涂層(B)和防反射層(C)，

在所述透光性基材(A)的至少一個面上依次層疊有所述硬涂層(B)及所述防反射層(C)，

構成所述防反射層(C)的元素至少包含碳及氟，

通過X射線光電分光法而測定的所述防反射層(C)的原子數在與所述硬涂層(B)相反側的表面滿足下述數學式(1)及(2)，并且在距離所述表面的深度為15～30nm的范圍內滿足下述數學式(3)，

7≤[(n_F/n_total)×100]≤27 (1)

30≤[(n_c/n_total)×100]≤41 (2)

[(n_F/n_total)×100]≤0.5 (3)

其中，所述數學式(1)～(3)中，n_total為碳、氮、氧、硅及氟的原子數的合計，n_F為氟原子數，n_c為碳原子數。

2.根據權利要求1所述的防反射膜，其中，所述硬涂層(B)為防眩性硬涂層。

3.根據權利要求1或2所述的防反射膜，其中，所述防反射層(C)包含空心粒子及實心粒子。

4.根據權利要求3所述的防反射膜，其中，所述空心粒子及所述實心粒子為二氧化硅粒子。

5.權利要求1～4中任一項所述的防反射膜的制造方法，其特征在于，其包括在所述透光性基材(A)與所述硬涂層(B)的層疊體中的所述硬涂層(B)上按照滿足所述數學式(1)～(3)的方式形成所述防反射層(C)的防反射層(C)形成工序，

所述防反射層(C)形成工序包括在所述硬涂層(B)上涂裝防反射層形成用涂裝液的涂裝工序和使所涂裝的所述防反射層形成用涂裝液干燥而形成涂膜的涂膜形成工序，

所述防反射層形成用涂裝液包含樹脂、含氟元素添加劑和稀釋溶劑。

6.根據權利要求5所述的制造方法，其中，所述防反射層(C)形成工序進一步包括使所述涂膜固化的固化工序。

7.根據權利要求5或6所述的制造方法，其中，所述稀釋溶劑包含甲基異丁基酮(MIBK)及丙二醇單甲醚乙酸酯(PMA)。

8.根據權利要求7所述的制造方法，其中，所述稀釋溶劑進一步包含叔丁醇(TBA)。

9.根據權利要求5或6所述的制造方法，其中，所述防反射膜為權利要求3或4所述的防反射膜，

所述防反射層形成用涂裝液進一步包含所述空心粒子及所述實心粒子。

10.根據權利要求7所述的制造方法，其中，所述防反射膜為權利要求3或4所述的防反射膜，

所述防反射層形成用涂裝液進一步包含所述空心粒子及所述實心粒子。

11.根據權利要求8所述的制造方法，其中，所述防反射膜為權利要求3或4所述的防反射膜，

所述防反射層形成用涂裝液進一步包含所述空心粒子及所述實心粒子。

12.一種光學構件，其包含權利要求1～4中任一項所述的防反射膜。

13.根據權利要求12所述的光學構件，其為偏振片。

14.一種圖像顯示裝置，其包含權利要求1～4中任一項所述的防反射膜或權利要求12或13所述的光學構件。