[發(fā)明專利]觸控面板及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910756500.0 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN110600504A | 公開(kāi)(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 彭斯敏;夏存軍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/32 | 分類號(hào): | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術(shù)*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板 觸控層 蝕刻 透明導(dǎo)電溶液 柔韌性 觸控面板 固化成膜 銀納米線 封裝膜 圖案化 顯示區(qū) 損傷 制作 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種觸控面板及其制作方法。本發(fā)明通過(guò)銀納米線制成透明導(dǎo)電溶液進(jìn)行觸控層的圖案化涂布,然后固化成膜,以減少蝕刻過(guò)程,并避免對(duì)封裝膜層所造成的損傷,且制成的觸控層能放置于顯示區(qū)的任意位置而不影響有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的出光,同時(shí)還能極大提高有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的柔韌性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于顯示領(lǐng)域,尤其涉及一種觸控面板及其制作方法。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)觸控面板(touch panel,TP)制備工藝多采用蝕刻制程進(jìn)行圖案化處理,而蝕刻工藝制程相對(duì)繁瑣,且容易出現(xiàn)蝕刻不干凈、蝕刻液/氣體殘留等問(wèn)題。一方面,在封裝膜層上制備TP時(shí)會(huì)有濕制程增加封裝失效的風(fēng)險(xiǎn);另一方面,鈦/鋁/鈦(Ti/Al/Ti)作為觸控導(dǎo)電材料,透明性差,制作TP時(shí)只能在非像素區(qū)域進(jìn)行布線,不僅位置具有局限性,而且對(duì)Ti/Al/Ti的線寬要求嚴(yán)格,工藝制程要求高、難度較大。
因此,有必要開(kāi)發(fā)出一種觸控面板來(lái)實(shí)現(xiàn)高透明性和高柔性。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于,提供一種觸摸面板及其制作方法。本發(fā)明通過(guò)銀納米線制成透明導(dǎo)電溶液進(jìn)行觸控層的圖案化涂布,然后固化成膜,以減少蝕刻過(guò)程,并避免對(duì)封裝膜層所造成的損傷,且制成的觸控層能放置于顯示區(qū)的任意位置而不影響有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的出光,同時(shí)還能極大提高有機(jī)發(fā)光二極管顯示面板的柔韌性。
根據(jù)本發(fā)明的一方面,本發(fā)明提供一種觸控面板,包括陣列層;像素定義層和陽(yáng)極層,間隔設(shè)于所述陣列層上;有機(jī)發(fā)光層,設(shè)于所述像素定義層的開(kāi)口區(qū)且位于所述陽(yáng)極層上;封裝層,覆蓋在所述像素定義層和所述有機(jī)發(fā)光層上;第一觸控層,設(shè)于所述封裝層上,所述第一觸控層的材料包括銀納米線;以及第一絕緣層,設(shè)于所述第一觸控層上。
進(jìn)一步地,所述觸控面板還包括第二觸控層,設(shè)于所述第一絕緣層上,所述第一觸控層的材料包括銀納米線;以及第二絕緣層,設(shè)于所述第二觸摸層。
進(jìn)一步地,所述第一絕緣層的材料包括氮化硅及氧化硅的至少一種。
進(jìn)一步地,所述第二絕緣層的材料包括氮化硅及氧化硅的至少一種。
進(jìn)一步地,所述封裝層包括沿遠(yuǎn)離所述陣列層方向依次層疊設(shè)置的第一無(wú)機(jī)層、有機(jī)層以及第二無(wú)機(jī)層,所述第一無(wú)機(jī)層和所述第二無(wú)機(jī)層的材料包括氮化硅、碳氮化硅及氧化硅的至少一種,所述有機(jī)層的材料包括丙烯、六甲基二硅氧烷、聚丙烯酸酯類、聚碳酸脂類及聚苯乙烯的至少一種。
根據(jù)本發(fā)明的另一方面,本發(fā)明還提供一種觸控面板的制作方法,包括在陣列層上形成像素定義層、陽(yáng)極層及有機(jī)發(fā)光層;在所述像素定義層及所述有機(jī)發(fā)光層上形成封裝層;以及在所述封裝層上依次形成第一觸控層和第一絕緣層。
進(jìn)一步地,在所述封裝層上依次形成第一觸控層和第一絕緣層的步驟之后,進(jìn)一步包括在所述第一絕緣層上依次形成第二觸控層及第二絕緣層。
進(jìn)一步地,通過(guò)蒸鍍工藝以及掩膜板在所述陽(yáng)極層上沉積所述有機(jī)發(fā)光層。
進(jìn)一步地,所述封裝層包括沿遠(yuǎn)離所述陣列層方向依次層疊設(shè)置第一無(wú)機(jī)層、有機(jī)層以及第二無(wú)機(jī)層,其中通過(guò)化學(xué)氣相沉積于所述有機(jī)發(fā)光層上形成所述第一無(wú)機(jī)層,通過(guò)噴墨打印或化學(xué)氣相沉積于所述第一無(wú)機(jī)層上形成所述有機(jī)層,通過(guò)化學(xué)氣相沉積于所述有機(jī)層上形成所述第二無(wú)機(jī)層。
進(jìn)一步地,以噴墨打印工藝搭配透明導(dǎo)電溶液于所述封裝層上依次進(jìn)行涂布、抽干溶劑以及紫外固化操作,形成所述第一觸控層;以噴墨打印工藝搭配透明導(dǎo)電溶液于所述第一絕緣層上依次進(jìn)行涂布、抽干溶劑以及紫外固化操作,形成所述第二觸控層。
進(jìn)一步地,所述透明導(dǎo)電溶液包括銀納米線。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





