[發明專利]觸控面板及其制作方法在審
| 申請號: | 201910756500.0 | 申請日: | 2019-08-16 |
| 公開(公告)號: | CN110600504A | 公開(公告)日: | 2019-12-20 |
| 發明(設計)人: | 彭斯敏;夏存軍 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) | 代理人: | 黃威 |
| 地址: | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 有機發光二極管顯示面板 觸控層 蝕刻 透明導電溶液 柔韌性 觸控面板 固化成膜 銀納米線 封裝膜 圖案化 顯示區 損傷 制作 | ||
1.一種觸控面板,其特征在于,包括:
陣列層;
像素定義層和陽極層,間隔設于所述陣列層上;
有機發光層,設于所述像素定義層的開口區且位于所述陽極層上;
封裝層,覆蓋在所述像素定義層和所述有機發光層上;
第一觸控層,設于所述封裝層上,所述第一觸控層的材料包括銀納米線;以及
第一絕緣層,設于所述第一觸控層上。
2.根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,還包括:
第二觸控層,設于所述第一絕緣層上,所述第二觸控層的材料包括銀納米線;以及
第二絕緣層,設于所述第二觸摸層上。
3.根據權利要求2所述的觸控面板,其特征在于,所述第二絕緣層的材料包括氮化硅及氧化硅的至少一種。
4.根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,所述第一絕緣層的材料包括氮化硅及氧化硅的至少一種。
5.根據權利要求1所述的觸控面板,其特征在于,所述封裝層包括沿遠離所述陣列層方向依次層疊設置的第一無機層、有機層以及第二無機層,所述第一無機層和所述第二無機層的材料包括氮化硅、碳氮化硅及氧化硅的至少一種,所述有機層的材料包括丙烯、六甲基二硅氧烷、聚丙烯酸酯類、聚碳酸脂類及聚苯乙烯的至少一種。
6.一種觸控面板的制作方法,其特征在于,包括:
在陣列層上形成像素定義層、陽極層及有機發光層;
在所述像素定義層及所述有機發光層上形成封裝層;以及
在所述封裝層上依次形成第一觸控層和第一絕緣層。
7.根據權利要求6所述的制作方法,其特征在于,在所述封裝層上依次形成第一觸控層和第一絕緣層的步驟之后,進一步包括在所述第一絕緣層上依次形成第二觸控層及第二絕緣層。
8.根據權利要求6所述的制作方法,其特征在于,通過蒸鍍工藝以及掩膜板在所述陽極層上沉積所述有機發光層。
9.根據權利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述封裝層包括沿遠離所述陣列層方向依次層疊設置第一無機層、有機層以及第二無機層,其中通過化學氣相沉積于所述有機發光層上形成所述第一無機層,通過噴墨打印或化學氣相沉積于所述第一無機層上形成所述有機層,通過化學氣相沉積于所述有機層上形成所述第二無機層。
10.根據權利要求7所述的制作方法,其特征在于,以噴墨打印工藝搭配透明導電溶液于所述封裝層上依次進行涂布、抽干溶劑以及紫外固化操作,形成所述第一觸控層;以噴墨打印工藝搭配透明導電溶液于所述第一絕緣層上依次進行涂布、抽干溶劑以及紫外固化操作,形成所述第二觸控層。
11.根據權利要求10所述的制作方法,其特征在于,所述透明導電溶液包括銀納米線。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





