[發(fā)明專利]一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置及處理方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910754122.2 | 申請日: | 2019-08-15 |
| 公開(公告)號: | CN110387525A | 公開(公告)日: | 2019-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張波;朱理瀚;金旭棟;龍海燕;虞文武;聶俊;馬雯雯 | 申請(專利權(quán))人: | 常州機(jī)電職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號: | C23C14/16 | 分類號: | C23C14/16;C23C14/34 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽光惠遠(yuǎn)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211 | 代理人: | 孫莉莉 |
| 地址: | 213164 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靶位 鍍鈦 醫(yī)療器械表面 鈦靶 底座 處理裝置 動力機(jī)構(gòu) 放電電源 磁控靶 真空室 貨桿 真空室內(nèi)壁 表面鍍鈦 器械表面 通用性差 同心設(shè)置 行星機(jī)構(gòu) 不均勻 環(huán)柱狀 鈦鍍層 接環(huán) 均布 上套 柱狀 室內(nèi) 生產(chǎn) | ||
本發(fā)明提出了一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置及處理方法,屬于表面鍍鈦處理技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置及處理方法。解決了現(xiàn)有鍍鈦裝置及方法會導(dǎo)致器械表面的鈦鍍層不均勻、生產(chǎn)效益低和通用性差的問題。它包括真空室、底座、動力機(jī)構(gòu)、貨桿、放電電源和磁控靶位,所述底座同心設(shè)置于真空室內(nèi),所述底座與動力機(jī)構(gòu)相連,所述磁控靶位包括中心靶位和立式靶位,所述中心靶位上套接環(huán)柱狀鈦靶,所述立式靶位數(shù)量為多個,多個立式靶位沿真空室圓周方向均布在真空室內(nèi)壁上,每個立式靶位上均裝有三個圓形鈦靶,所述環(huán)柱狀鈦靶和圓形鈦靶均與放電電源相連,所述貨桿與底座通過行星機(jī)構(gòu)相連。它主要用于醫(yī)療器械表面鍍鈦處理。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于表面鍍鈦處理技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置及處理方法。
背景技術(shù)
醫(yī)療器械,包括手術(shù)器材、植入物等,在生活和醫(yī)學(xué)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,鈦具有生物相容性等性能,由于成本和性能等方面考慮,很多醫(yī)療器械本體采用了非鈦合金成形,就需要在醫(yī)療器械本體表面進(jìn)行鈦薄膜的沉積,以實現(xiàn)表面功能化。目前鍍鈦主要采用真空鍍法,但這些裝置及處理方法也存在一些問題:1.由于濺射角度和視線所限,器械表面的鈦鍍層不均勻;2.由于真空設(shè)備空間所限,生產(chǎn)效益低;3.由于鈦鍍層的功能性需求不同,放電形式不能實現(xiàn)通用性。如何提高醫(yī)療器械本體表面鈦薄膜功能化,以實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)要求,一直是努力方向。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的問題,提出一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置及處理方法。
為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,它包括真空室、底座、動力機(jī)構(gòu)、貨桿、放電電源和磁控靶位,所述真空室為立式圓筒形結(jié)構(gòu),所述底座同心設(shè)置于真空室內(nèi),所述底座與動力機(jī)構(gòu)相連,所述磁控靶位包括中心靶位和立式靶位,所述中心靶位與底座中心固定相連,所述中心靶位上套接環(huán)柱狀鈦靶,所述立式靶位數(shù)量為多個,多個立式靶位沿真空室圓周方向均布在真空室內(nèi)壁上,每個立式靶位上均裝有三個圓形鈦靶,所述環(huán)柱狀鈦靶和圓形鈦靶均與放電電源相連,所述貨桿數(shù)量為多個,多個貨桿沿中心靶位圓周方向均布在底座上,所述貨桿與底座通過行星機(jī)構(gòu)相連。
更進(jìn)一步的,所述真空室與通氣控制系統(tǒng)和抽氣控制系統(tǒng)相連。
更進(jìn)一步的,所述真空室一側(cè)開設(shè)有真空室門,所述真空室高為2000mm,內(nèi)直徑為1300mm。
更進(jìn)一步的,所述中心靶位為立式柱狀靶位,所述環(huán)柱狀鈦靶高為1500mm,內(nèi)直徑為120mm,厚度為20mm。
更進(jìn)一步的,所述立式靶位數(shù)量數(shù)量為四個,所述圓形鈦靶直徑為250mm,厚度為20mm。
更進(jìn)一步的,所述貨桿為圓柱形掛式結(jié)構(gòu),數(shù)量為四個,所述貨桿高度為1500mm直徑為100mm。
更進(jìn)一步的,所述動力機(jī)構(gòu)為調(diào)速電機(jī)。
本發(fā)明還提供了一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理方法,它包括以下步驟:
步驟一:將待處理的醫(yī)療器械放置在貨桿上,關(guān)閉真空室門,開啟動力機(jī)構(gòu),使底座與中心靶位同向旋轉(zhuǎn),貨桿圍繞中心靶位反向公轉(zhuǎn)并反向自轉(zhuǎn),達(dá)到轉(zhuǎn)動穩(wěn)定;
步驟二:啟動抽氣控制系統(tǒng),保持真空室內(nèi)本底真空度為0.001-0.01Pa,打開通氣控制系統(tǒng),向真空室內(nèi)填充惰性氣體,維持真空室內(nèi)的工作真空度保持在1-5Pa;
步驟三:開啟放電電源,放電電源進(jìn)行濺射對醫(yī)療器械表面鍍鈦,濺射時間為20-60min;
步驟四:處理完成后,關(guān)閉放電電源、動力機(jī)構(gòu)、抽氣控制系統(tǒng)和通氣控制系統(tǒng),通入空氣至大氣壓,開啟真空室門,從貨桿上取下已完成表面鍍鈦處理的醫(yī)療器械。
更進(jìn)一步的,所述步驟二中惰性氣體為氬氣。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





