[發(fā)明專利]一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置及處理方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910754122.2 | 申請(qǐng)日: | 2019-08-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110387525A | 公開(公告)日: | 2019-10-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張波;朱理瀚;金旭棟;龍海燕;虞文武;聶俊;馬雯雯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 常州機(jī)電職業(yè)技術(shù)學(xué)院 |
| 主分類號(hào): | C23C14/16 | 分類號(hào): | C23C14/16;C23C14/34 |
| 代理公司: | 哈爾濱市陽(yáng)光惠遠(yuǎn)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 23211 | 代理人: | 孫莉莉 |
| 地址: | 213164 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 靶位 鍍鈦 醫(yī)療器械表面 鈦靶 底座 處理裝置 動(dòng)力機(jī)構(gòu) 放電電源 磁控靶 真空室 貨桿 真空室內(nèi)壁 表面鍍鈦 器械表面 通用性差 同心設(shè)置 行星機(jī)構(gòu) 不均勻 環(huán)柱狀 鈦鍍層 接環(huán) 均布 上套 柱狀 室內(nèi) 生產(chǎn) | ||
1.一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,其特征在于:它包括真空室(1)、底座(3)、動(dòng)力機(jī)構(gòu)(4)、貨桿(7)、放電電源(8)和磁控靶位,所述真空室(1)為立式圓筒形結(jié)構(gòu),所述底座(3)同心設(shè)置于真空室(1)內(nèi),所述底座(3)與動(dòng)力機(jī)構(gòu)(4)相連,所述磁控靶位包括中心靶位和立式靶位,所述中心靶位與底座(3)中心固定相連,所述中心靶位上套接環(huán)柱狀鈦靶(5),所述立式靶位數(shù)量為多個(gè),多個(gè)立式靶位沿真空室(1)圓周方向均布在真空室(1)內(nèi)壁上,每個(gè)立式靶位上均裝有三個(gè)圓形鈦靶(2),所述環(huán)柱狀鈦靶(5)和圓形鈦靶(2)均與放電電源(8)相連,所述貨桿(7)數(shù)量為多個(gè),多個(gè)貨桿(7)沿中心靶位圓周方向均布在底座(3)上,所述貨桿(1)與底座(3)通過(guò)行星機(jī)構(gòu)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,其特征在于:所述真空室(1)與通氣控制系統(tǒng)和抽氣控制系統(tǒng)相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,其特征在于:所述真空室(1)一側(cè)開設(shè)有真空室門(6),所述真空室(1)高為2000mm,內(nèi)直徑為1300mm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,其特征在于:所述中心靶位為立式柱狀靶位,所述環(huán)柱狀鈦靶(5)高為1500mm,內(nèi)直徑為120mm,厚度為20mm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,其特征在于:所述立式靶位數(shù)量數(shù)量為四個(gè),所述圓形鈦靶(2)直徑為250mm,厚度為20mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,其特征在于:所述貨桿(7)為圓柱形掛式結(jié)構(gòu),數(shù)量為四個(gè),所述貨桿(7)高度為1500mm直徑為100mm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置,其特征在于:所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)(4)為調(diào)速電機(jī)。
8.一種如權(quán)利要求1所述的醫(yī)療器械表面鍍鈦處理裝置的處理方法,其特征在于:它包括以下步驟:
步驟一:將待處理的醫(yī)療器械放置在貨桿(7)上,關(guān)閉真空室門(6),開啟動(dòng)力機(jī)構(gòu)(4),使底座(3)與中心靶位同向旋轉(zhuǎn),貨桿(7)圍繞中心靶位反向公轉(zhuǎn)并反向自轉(zhuǎn),達(dá)到轉(zhuǎn)動(dòng)穩(wěn)定;
步驟二:?jiǎn)?dòng)抽氣控制系統(tǒng),保持真空室(1)內(nèi)本底真空度為0.001-0.01Pa,打開通氣控制系統(tǒng),向真空室(1)內(nèi)填充惰性氣體,維持真空室(1)內(nèi)的工作真空度保持在1-5Pa;
步驟三:開啟放電電源(8),放電電源(8)進(jìn)行濺射對(duì)醫(yī)療器械表面鍍鈦,濺射時(shí)間為20-60min;
步驟四:處理完成后,關(guān)閉放電電源(8)、動(dòng)力機(jī)構(gòu)(4)、抽氣控制系統(tǒng)和通氣控制系統(tǒng),通入空氣至大氣壓,開啟真空室門(6),從貨桿(7)上取下已完成表面鍍鈦處理的醫(yī)療器械。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理方法,其特征在于:所述步驟二中惰性氣體為氬氣。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種醫(yī)療器械表面鍍鈦處理方法,其特征在于:所述步驟三中放電電源(8)為射頻電源、電弧電源和/或直流電源,所述射頻電源功率為60-120W,所述電弧電源功率為5-10KW,所述直流電源功率為30-60W。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





