[發明專利]一種受阻胺受阻胺光穩定劑119及其衍生物的制備方法在審
| 申請號: | 201910745715.2 | 申請日: | 2019-08-13 |
| 公開(公告)號: | CN110437207A | 公開(公告)日: | 2019-11-12 |
| 發明(設計)人: | 柯友斌;張曉靜 | 申請(專利權)人: | 宿遷市振興化工有限公司 |
| 主分類號: | C07D401/14 | 分類號: | C07D401/14 |
| 代理公司: | 南京常青藤知識產權代理有限公司 32286 | 代理人: | 金迪 |
| 地址: | 223800 江蘇省宿遷*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 受阻胺光穩定劑 醛類化合物 優選 多聚甲醛 雷尼鎳 受阻胺 制備 催化劑 催化 四甲基哌啶 烷基化反應 后處理 氫氣氛圍 氫氧化鈉 三聚氯氰 設備腐蝕 氫氣 氨丙基 二甲苯 可回收 穩定劑 乙二胺 正丁基 總收率 溶劑 胺光 合成 | ||
本發明提供一種受阻胺受阻胺光穩定劑119及其衍生物的制備方法,首先,N?正丁基?N?2,2,6,6?四甲基哌啶胺與三聚氯氰反應得到中間體Ⅰ,其次在N2保護下,中間體Ⅰ與N,N'?二(3?氨丙基)乙二胺在堿的催化下反應得到中間體Ⅱ,然后中間體Ⅱ在雷尼鎳催化下和氫氣氛圍中與醛類化合物發生N?烷基化反應,合成受阻胺光穩定劑119或其衍生物,溶劑均優選二甲苯、堿均優選氫氧化鈉,醛類化合物優選多聚甲醛,所得產品阻胺光穩定劑119的總收率高達93.5%。本發明使用雷尼鎳作為催化劑,以多聚甲醛等醛類化合物作為與氫氣進行烷基化的試劑,具有后處理簡單、催化劑可回收利用、設備腐蝕小等優點。
技術領域
本發明具體涉及一種受阻胺受阻胺光穩定劑119及其衍生物的制備方法。
背景技術
受阻胺類光穩定劑(HALS)是一類具有空間位阻的有機胺類化合物,其分子中含有哌啶基,并在哌啶基兩側的碳原子上各連有兩個甲基的化合物,由于與氮原子連接的基團受到兩側甲基的位阻,故得到受阻胺的名稱。受阻胺類光穩定劑不僅具有高效的光穩定效果,而且具有抗氧化、抗紫外線等多種性能,且與材料有良好的相容性,已經廣泛用于塑料、橡膠與纖維等材料中。
受阻胺光穩定劑119是一種單體型高分子量的受阻胺類光穩定劑,分子式為C132H250N32,分子量2285.61,其結構如式IV所示,由于其大分子結構,具有優秀的耐抽提性和耐遷移性,適用于要求低揮發性和抗遷移性的高分子聚合物中,如聚乙烯、聚丙烯等聚合材料等。
現有受阻胺光穩定劑119合成技術中常采用甲醛/甲酸體系對中間體進行烷基化反應,反應后需加入堿對過量甲酸進行中和,因而會產生大量含鹽廢水,污染環境。因此,急需一種能夠解決現有問題的受阻胺受阻胺光穩定劑119及其衍生物的制備方法。
發明內容
本發明的目的是提供一種受阻胺受阻胺光穩定劑119及其衍生物的制備方法,該方法使用非均相體系催化的受阻胺光穩定劑119及其衍生物合成過程中烷基化反應,制備過程具有環境污染小、后處理簡單的優點。
本發明提供了如下的技術方案:
一種受阻胺受阻胺光穩定劑119及其衍生物的制備方法,包括如下步驟:
S1、在反應體系內加入N-正丁基-N-2,2,6,6-四甲基哌啶胺、三聚氯氰、堿和溶劑,在40-80℃下反應12h,反應結束后,反應液分液,有機相經洗滌、干燥、脫除溶劑處理后得到中間體Ⅰ,其結構如式Ⅰ所示;
S2、在反應體系中加入中間體Ⅰ、N,N'-二(3-氨丙基)乙二胺、堿和溶劑,并用N2置換反應體系內的空氣,在160-200℃下回流反應12h,反應結束后,反應液分液,有機相經洗滌、干燥、脫除溶劑處理后得到中間體Ⅱ,其結構如式Ⅱ所示;
S3、在高壓釜中加入雷尼鎳、溶劑、中間體Ⅱ和醛類化合物,依次用N2、H2置換空氣,在80-120℃,初始氫氣壓力為1-4MPa的條件下反應6h,反應結束后,將催化劑過濾,有機相經過洗滌、干燥、脫除溶劑后,即得受阻胺光穩定劑119或其衍生物,其結構如式Ⅲ所示;
具體反應路線如下所示:
其中,醛類化合物為多聚甲醛、甲醛、乙醛、三聚乙醛中的一種,式Ⅲ中的R3為甲基或乙基。
優選的,S1步驟中的N-正丁基-N-2,2,6,6-四甲基哌啶胺與三聚氯氰的摩爾比為1-3:1。
優選的,S2步驟中的中間體Ⅰ與N,N'-二(3-氨丙基)乙二胺的摩爾比為3-5:1。
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