[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910743566.6
• 申請(qǐng)日: 2019-08-13
• 公開（公告）號(hào): CN110571246A
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 閆瑩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32
• 代理公司: 44300 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 黃威

本發(fā)明公開了一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置，陣列基板包括基板；像素定義層，設(shè)于所述基板上，所述像素定義層中包括開孔和圍繞所述開孔的擋墻，其中所述擋墻對(duì)應(yīng)非發(fā)光區(qū)，所述開孔對(duì)應(yīng)發(fā)光區(qū)；相鄰兩個(gè)開孔之間的所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)有的凹槽。本發(fā)明的有益效果在于陣列基板及其制備方法、顯示裝置通過在像素定義層的開孔之間的擋墻上開設(shè)凹槽來有效減少墨水混色帶來的顯示不良。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，特別涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術(shù)

AMOLED(英語：Active-matrix organic light-emitting diode，中譯：有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極體或主動(dòng)矩陣有機(jī)發(fā)光二極體)是一種顯示屏技術(shù)。其中OLED(有機(jī)發(fā)光二極體)是描述薄膜顯示技術(shù)的具體類型：有機(jī)電激發(fā)光顯示；AM(有源矩陣體或稱主動(dòng)式矩陣體)是指背后的像素尋址技術(shù)。目前AMOLED技術(shù)主要用于智能手機(jī)，并繼續(xù)朝低功耗、低成本、大尺寸方向發(fā)展。

如圖1所示，噴墨打印技術(shù)在AMOLED顯示器件有機(jī)功能層的制備中，應(yīng)用前景較好。噴墨打印技術(shù)是將溶有OLED材料的墨水直接滴涂到預(yù)先制作好的像素定義層中，待溶劑揮發(fā)后形成所需圖案。所述像素定義層包括堤壩、以及由堤壩圍攏成的多個(gè)陣列排布的凹槽，所述凹槽由用來限制住墨水，通過干燥烘烤后，墨水收縮在該凹槽限制的范圍內(nèi)形成薄膜。

隨著顯示面板的分辨率提高，像素設(shè)計(jì)也越來越小，這就對(duì)應(yīng)噴墨打印的精度要求越來越高，打印的精度及墨滴量越來越難控制。而目前打印的精度需要位置，液滴大小及液滴的數(shù)量的準(zhǔn)確優(yōu)化，才可打出需要的基板，而這些如果調(diào)整不佳，則有可能產(chǎn)生橋接(bridge)的現(xiàn)象發(fā)生。相鄰的像素的墨水從像素定義層的凹槽中溢出(overflow)而搭接在一起，造成顯示不良現(xiàn)象發(fā)生。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置用以解決現(xiàn)有技術(shù)中由于噴墨打印技術(shù)中墨水滴落位置不佳而產(chǎn)生的“橋接”現(xiàn)象。

解決上述問題的技術(shù)方案是：本發(fā)明提供了一種陣列基板，包括發(fā)光區(qū)和圍繞所述發(fā)光區(qū)的非發(fā)光區(qū)，還包括基板；像素定義層，設(shè)于所述基板上，所述像素定義層中包括開孔和圍繞所述開孔的擋墻，其中所述擋墻對(duì)應(yīng)非發(fā)光區(qū)，所述開孔對(duì)應(yīng)發(fā)光區(qū)；相鄰兩個(gè)開孔之間的所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)有的凹槽。

進(jìn)一步的，所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)為外凸的弧形、外凸的錐形、外凸棱形中的一種，所述凹槽設(shè)于所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)的中間位置。

進(jìn)一步的，所述凹槽的開口寬度在20～50微米之間，所述凹槽的開口深度為0.5～1微米。

進(jìn)一步的，任一所述開孔內(nèi)均設(shè)有像素層，所述像素層包括紅色像素層、綠色像素層和藍(lán)色像素層。

進(jìn)一步的，所述像素定義層的材料為疏水疏油材料。

本發(fā)明還提供了一種陣列基板的制備方法，所述陣列基板包括發(fā)光區(qū)和圍繞所述發(fā)光區(qū)的非發(fā)光區(qū)，包括提供一基板；像素定義層制備步驟：在所述基板上形成像素定義層，在所述像素定義層對(duì)應(yīng)所述發(fā)光區(qū)開設(shè)開孔，所述開孔貫穿所述像素定義層；開槽步驟：相鄰所述開孔之間的所述像素定義層形成擋墻，在所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)開設(shè)凹槽。

進(jìn)一步的，所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)形成有外凸圓弧表面。

進(jìn)一步的，在所述像素定義層制備步驟中，采用狹縫掩膜板制備所述外凸圓弧表面。

進(jìn)一步的，在所述開槽步驟中，采用半色調(diào)掩膜板在所述擋墻上開設(shè)所述凹槽。

本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括所述陣列基板。