[發(fā)明專利]一種陣列基板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910743566.6
• 申請(qǐng)日: 2019-08-13
• 公開（公告）號(hào): CN110571246A
• 公開（公告）日: 2019-12-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 閆瑩
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32
• 代理公司: 44300 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙)
• 代理人: 黃威

1.一種陣列基板，包括發(fā)光區(qū)和圍繞所述發(fā)光區(qū)的非發(fā)光區(qū)，其特征在于，還包括

基板；

像素定義層，設(shè)于所述基板上，所述像素定義層中包括開孔和圍繞所述開孔的擋墻，其中所述擋墻對(duì)應(yīng)非發(fā)光區(qū)，所述開孔對(duì)應(yīng)發(fā)光區(qū)；

相鄰兩個(gè)開孔之間的所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)有的凹槽。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)為外凸的弧形、外凸的錐形、外凸棱形中的一種，所述凹槽設(shè)于所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)的中間位置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

所述凹槽的開口寬度在20～50微米之間，所述凹槽的開口深度為0.5～1微米。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

任一所述開孔內(nèi)均設(shè)有像素層，所述像素層包括紅色像素層、綠色像素層和藍(lán)色像素層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板，其特征在于，

所述像素定義層的材料為疏水疏油材料。

6.一種陣列基板的制備方法，所述陣列基板包括發(fā)光區(qū)和圍繞所述發(fā)光區(qū)的非發(fā)光區(qū)，其特征在于，包括

提供一基板；

像素定義層制備步驟：在所述基板上形成像素定義層，在所述像素定義層對(duì)應(yīng)所述發(fā)光區(qū)開設(shè)開孔，所述開孔貫穿所述像素定義層；

開槽步驟：相鄰所述開孔之間的所述像素定義層形成擋墻，在所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)開設(shè)凹槽。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，

所述擋墻遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)形成有外凸圓弧表面。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，

在所述像素定義層制備步驟中，采用狹縫掩膜板制備所述外凸圓弧表面。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陣列基板的制備方法，其特征在于，

在所述開槽步驟中，采用半色調(diào)掩膜板在所述擋墻上開設(shè)所述凹槽。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述陣列基板。