[發明專利]一種類金剛石涂層的退膜處理裝置及其使用方法

在審

• 申請號: 201910736995.0
• 申請日: 2019-08-10
• 公開（公告）號: CN110423994A
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發明（設計）人: 黃仕江;蔣源;袁明
• 申請（專利權）人: 上海妙殼新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C16/02
• 分類號: C23C16/02;C23C16/27;C23G5/00;B08B3/12
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1.一種類金剛石涂層的退膜處理裝置，包括真空腔以及與真空腔固定的轉軸，所述轉軸上端固定有位于真空腔內的工件臺(5)，其特征在于：所述真空腔的上端插接有左右兩個深入到真空腔內的電極(1)，且兩個電極(1)的內端連接有燈絲(2)，兩個電極(1)的外端之間通過燈絲電源(3)連接，所述工件臺(5)上設置有基體(4)，且轉軸與真空腔之間設置有偏壓電源(6)，所述真空腔上分別開設有氬氣進入口、氧氣進入口和氫氣進入口，且真空腔上開設有抽氣口。

2.根據權利要求1所述的一種類金剛石涂層的退膜處理裝置，其特征在于：所述電極(1)為石墨。

3.根據權利要求2所述的一種類金剛石涂層的退膜處理裝置，其特征在于：所述轉軸與真空腔轉動連接，且轉軸穿過真空腔連接有電機。

其使用方法，包括以下步驟：

S1：基礎設定：所述燈絲(2)的功率3.5～4.5kw,溫度200～500℃，氣壓900～1100Pa；

S2：偏壓電源設定：所述偏壓電源(6)的電壓為30～50v，電流為30～60A；

S3：氣體通入設定：真空腔工作后，通入氫氣，時間為20～90min；

S4：清洗：結束之后進行清洗，以備再次鍍膜。

4.根據權利要求3所述的一種類金剛石涂層的退膜處理裝置的使用方法，其特征在于：所述步驟S3中，氫氣的通入量為400～1200scm，還可以向其中通入氬氣，氫氣和氬氣的比列為20:1～20:4。

5.根據權利要求4所述的一種類金剛石涂層的退膜處理裝置，其特征在于：還可以在步驟S3的處理前期通入氧氣，氧氣的流量為400～500scm。

6.根據權利要求3所述的一種類金剛石涂層的退膜處理裝置及其使用方法，其特征在于：所述步驟S4中的清洗為超聲波清洗。