[發(fā)明專利]檢查系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910732372.6 | 申請日: | 2019-08-09 |
| 公開(公告)號: | CN112433258A | 公開(公告)日: | 2021-03-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 孫尚民;宗春光;胡煜;史俊平;馬媛;孟輝;何家明 | 申請(專利權(quán))人: | 同方威視技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號: | G01V5/00 | 分類號: | G01V5/00;G01N23/04 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 馬艷苗;艾春慧 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢查 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明涉及安全檢查技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種檢查系統(tǒng)。本發(fā)明所提供的檢查系統(tǒng),包括:放射源裝置,可移動地設(shè)置,并包括放射源,放射源用于放射穿過待檢目標(biāo)的射線,且放射源的至少部分位于用于承載待檢目標(biāo)的目標(biāo)承載表面的下方;和探測裝置,與放射源裝置可同步移動地設(shè)置,并包括探測器,探測器用于探測由射線源放射并穿過待檢目標(biāo)的射線。在本發(fā)明中,無需再設(shè)置輸送裝置來拖動待檢目標(biāo),即可完成掃描過程,因此,可以消除輸送裝置對檢查系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及安全檢查技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種檢查系統(tǒng)。
背景技術(shù)
目前,針對小型車輛的檢查系統(tǒng)通常采用射線源頂置的方式,探測器位于兩側(cè)和底部的U型臂架內(nèi)接收射線,且由于底部探測器臂等的存在,這種檢查系統(tǒng)一般設(shè)置為不能移動的,而另外設(shè)置輸送裝置來拖動被檢車輛通過掃描區(qū)域,完成檢查過程。但由于底部探測器臂的存在和穿透指標(biāo)的要求,輸送裝置往往需要分段布置,以避開其在掃描區(qū)域?qū)Τ上褓|(zhì)量的影響,但這又給車輛通過掃描區(qū)域的平穩(wěn)性帶來了困難,因為無論采用板鏈、輥筒或皮帶等中的哪種結(jié)構(gòu),輸送裝置交接處的間隙都會引起車輛在上下和前后方向的竄動,以致于影響成像質(zhì)量。同時,底部探測器臂對占地面積和維護(hù)空間的要求也較高。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的一個技術(shù)問題是:消除輸送裝置對檢查系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供了一種檢查系統(tǒng),其包括:放射源裝置,可移動地設(shè)置,并包括放射源,放射源用于放射穿過待檢目標(biāo)的射線;和
探測裝置,與放射源裝置可同步移動地設(shè)置,并包括探測器,探測器用于探測由射線源放射并穿過待檢目標(biāo)的射線。
并且其中:放射源的至少部分位于用于承載待檢目標(biāo)的目標(biāo)承載表面的下方。
在一些實施例中,放射源裝置還包括第一承載裝置,第一承載裝置承載放射源并帶動放射源移動。
在一些實施例中,第一承載裝置的至少部分位于地坑內(nèi)。
在一些實施例中,檢查系統(tǒng)還包括第一調(diào)節(jié)裝置,第一調(diào)節(jié)裝置設(shè)置在第一承載裝置上并用于調(diào)節(jié)放射源的角度和/或放射源在第一承載裝置上的位置。
在一些實施例中,檢查系統(tǒng)還包括第二調(diào)節(jié)裝置,第二調(diào)節(jié)裝置用于調(diào)節(jié)探測器,以使探測器的探測面正對由射線源放射并穿過待檢目標(biāo)的射線。
在一些實施例中,探測裝置還包括第二承載裝置,第二承載裝置承載探測器并帶動探測器與放射源裝置同步移動。
在一些實施例中,第二承載裝置包括兩個豎臂、連接于兩個豎臂上部之間的橫臂、以及設(shè)置在兩個豎臂下方的行走機構(gòu),橫臂與兩個豎臂之間形成用于容置待檢目標(biāo)的空間,探測器設(shè)置于豎臂和/或橫臂上。
在一些實施例中,檢查系統(tǒng)的第二調(diào)節(jié)裝置通過調(diào)節(jié)橫臂和/或豎臂,來使探測器的探測面正對由放射源放射。
在一些實施例中,檢查系統(tǒng)還包括目標(biāo)承載裝置,目標(biāo)承載裝置用于承載待檢目標(biāo),目標(biāo)承載表面為目標(biāo)承載裝置的上表面。
在一些實施例中,目標(biāo)承載裝置包括彼此間隔設(shè)置的第一支撐裝置和第二支撐裝置,該第一支撐裝置和第二支撐裝置共同支撐待檢目標(biāo),放射源裝置設(shè)置于第一支撐裝置和第二支撐裝置之間。
本發(fā)明將放射源裝置和探測裝置設(shè)置為可同步移動的,并將放射源底置,使得無需再設(shè)置輸送裝置來拖動待檢目標(biāo),即可完成掃描過程,因此,可以消除輸送裝置對檢查系統(tǒng)成像質(zhì)量的影響。
通過以下參照附圖對本發(fā)明的示例性實施例進(jìn)行詳細(xì)描述,本發(fā)明的其它特征及其優(yōu)點將會變得清楚。
附圖說明
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于同方威視技術(shù)股份有限公司,未經(jīng)同方威視技術(shù)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910732372.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





