[發明專利]檢查系統

在審

• 申請號: 201910732372.6
• 申請日: 2019-08-09
• 公開（公告）號: CN112433258A
• 公開（公告）日: 2021-03-02
• 發明（設計）人: 孫尚民;宗春光;胡煜;史俊平;馬媛;孟輝;何家明
• 申請（專利權）人: 同方威視技術股份有限公司
• 主分類號: G01V5/00
• 分類號: G01V5/00;G01N23/04
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 馬艷苗;艾春慧

1.一種檢查系統，其特征在于，包括：

放射源裝置，可移動地設置，并包括放射源(1)，所述放射源(1)用于放射穿過待檢目標(a)的射線；和

探測裝置，與所述放射源裝置可同步移動地設置，并包括探測器(4)，所述探測器(4)用于探測由所述射線源放射并穿過所述待檢目標(a)的射線；

并且其中：所述放射源(1)的至少部分位于用于承載所述待檢目標(a)的目標承載表面的下方。

2.根據權利要求1所述的檢查系統，其特征在于，所述放射源裝置還包括第一承載裝置(3)，所述第一承載裝置(3)承載所述放射源(1)并帶動所述放射源(1)移動。

3.根據權利要求2所述的檢查系統，其特征在于，所述第一承載裝置(3)的至少部分位于地坑內。

4.根據權利要求2所述的檢查系統，其特征在于，所述檢查系統還包括第一調節裝置，所述第一調節裝置設置在所述第一承載裝置(3)上并用于調節所述放射源(1)的角度和/或所述放射源(1)在所述第一承載裝置(3)上的位置。

5.根據權利要求1所述的檢查系統，其特征在于，所述檢查系統還包括第二調節裝置，所述第二調節裝置用于調節所述探測器(4)，以使所述探測器(4)的探測面正對由所述射線源放射并穿過所述待檢目標(a)的射線。

6.根據權利要求1-5任一所述的檢查系統，其特征在于，所述探測裝置還包括第二承載裝置(5)，所述第二承載裝置(5)承載所述探測器(4)并帶動所述探測器(4)與所述放射源裝置同步移動。

7.根據權利要求6所述的檢查系統，其特征在于，所述第二承載裝置(5)包括兩個豎臂(51)、連接于所述兩個豎臂(51)上部之間的橫臂(52)、以及設置在所述兩個豎臂(51)下方的行走機構，所述橫臂(52)與所述兩個豎臂(51)之間形成用于容置所述待檢目標的空間，所述探測器(4)設置于所述豎臂(51)和/或所述橫臂(52)上。

8.根據權利要求6所述的檢查系統，其特征在于，所述檢查系統的第二調節裝置通過調節所述橫臂(52)和/或所述豎臂(51)，來使所述探測器(4)的探測面正對由所述放射源(1)放射的射線。

9.根據權利要求1-5任一所述的檢查系統，其特征在于，所述檢查系統還包括目標承載裝置(6)，所述目標承載裝置(6)用于承載所述待檢目標(a)，所述目標承載表面為所述目標承載裝置(6)的上表面。

10.根據權利要求9所述的檢查系統，其特征在于，所述目標承載裝置包括彼此間隔設置的第一支撐裝置(61)和第二支撐裝置(62)，所述第一支撐裝置(61)和所述第二支撐裝置(62)共同支撐所述待檢目標(a)，所述放射源裝置設置于所述第一支撐裝置(61)和所述第二支撐裝置(62)之間。