[發(fā)明專利]遮光隔圈及其制造方法、成像鏡頭組、攝像裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910731054.8 | 申請日: | 2019-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN110376664A | 公開(公告)日: | 2019-10-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 高健;蒯澤文;袁銀潮 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江舜宇光學(xué)有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/115 | 分類號: | G02B1/115;G02B1/04;G02B7/02;G03B11/04 |
| 代理公司: | 北京英賽嘉華知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11204 | 代理人: | 王達(dá)佐;王艷春 |
| 地址: | 315400 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 環(huán)形片體 減反射膜 隔圈 遮光 成像鏡頭組 攝像裝置 第一端 微結(jié)構(gòu) 不透明材料 折射率 刻蝕 制造 申請 | ||
本申請公開了一種遮光隔圈及其制造方法、成像鏡頭組、攝像裝置。該遮光隔圈包括:環(huán)形片體,環(huán)形片體由不透明材料制成,并且在環(huán)形片體的厚度方向上,環(huán)形片體具有第一端和第二端,第一端和第二端中的至少一端處設(shè)置有刻蝕出的微結(jié)構(gòu);以及減反射膜,減反射膜至少設(shè)置于環(huán)形片體上微結(jié)構(gòu)處,減反射膜的折射率N滿足N≤1.8。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請涉及一種光學(xué)元件,更具體地,涉及一種遮光隔圈及其制造方法、包括該遮光隔圈的成像鏡頭組、包括該成像鏡頭組的攝像裝置。
背景技術(shù)
成像鏡頭組是手機(jī)、數(shù)碼相機(jī)、監(jiān)控器等攝像裝置的重要組件,成像鏡頭組的性能直接決定了攝像裝置的成像質(zhì)量。
為了保證成像鏡頭組中的相鄰?fù)哥R具有預(yù)定間距,需要在相鄰?fù)哥R之間設(shè)置隔圈。現(xiàn)有的許多隔圈可能無法很好地抑制在成像鏡頭組內(nèi)的雜散光。在這種情況下,成像鏡頭組的成像質(zhì)量可能會受到影響。因此,業(yè)內(nèi)需要一種改良的遮光隔圈以提高成像質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
為解決或部分解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷,本申請的實(shí)施例提出了遮光隔圈及制造遮光隔圈的方法。本申請的實(shí)施例還提供了包括該遮光隔圈的成像鏡頭組以及包括該成像鏡頭組的攝像裝置。
本申請的實(shí)施例提供了一種遮光隔圈,該遮光隔圈包括:環(huán)形片體,環(huán)形片體由不透明材料制成,并且在環(huán)形片體的厚度方向上,環(huán)形片體具有第一端和第二端,第一端和第二端中的至少一端處設(shè)置有刻蝕出的微結(jié)構(gòu);以及減反射膜,減反射膜至少設(shè)置于環(huán)形片體上微結(jié)構(gòu)處,減反射膜的折射率N可滿足N≤1.8。
在一個實(shí)施方式中,微結(jié)構(gòu)是刻蝕出的空隙的陣列。
在一個實(shí)施方式中,環(huán)形片體的材質(zhì)是塑膠。
在一個實(shí)施方式中,塑膠為聚對苯二甲酸乙二醇酯或聚酰亞胺。
在一個實(shí)施方式中,減反射膜的材質(zhì)包括Al、Mg、Ti、Si、Sn、Hf、Nb、Ta、Zr及Y中的至少一種元素的氧化物、氮化物、氟化物以及氮氧化物中的至少一種。
在一個實(shí)施方式中,減反射膜的材質(zhì)是SiO2,并且減反射膜的厚度可為26nm。
在一個實(shí)施方式中,對應(yīng)380nm至780nm波長范圍的光,所述減反射膜的反射率R可滿足R≤0.1%。
第二方面,本申請的實(shí)施例提供了一種制造遮光隔圈的方法,包括如下步驟:對不透明材料制成的基底進(jìn)行等離子刻蝕,以在基底的至少一個表面上形成微結(jié)構(gòu);以及在微結(jié)構(gòu)處沉積減反射膜,減反射膜的折射率N滿足N≤1.8。
在一個實(shí)施方式中,基底為環(huán)形片體,在環(huán)形片體的厚度方向上,環(huán)形片體具有第一端和第二端,在第一端和第二端中的至少一端處形成微結(jié)構(gòu)。
在一個實(shí)施方式中,該方法還包括:在對不透明材料制成的基底進(jìn)行等離子刻蝕之前,對基底上待形成微結(jié)構(gòu)的位置處的表面磨砂處理。
在一個實(shí)施方式中,表面磨砂處理后基底的表面的Ra值位于0.67nm~0.69nm之間;等離子刻蝕后基底的表面的Ra值位于0.79nm~0.81nm之間;沉積減反射膜后基底的表面的Ra值位于0.86nm~0.89nm之間。
在一個實(shí)施方式中,不透明材料為塑膠;以及基底通過射出成型得到。
在一個實(shí)施方式中,沉積減反射膜包括:通過真空蒸發(fā)鍍膜方式沉積減反射膜。
第三方面,本申請的實(shí)施例提供了一種成像鏡頭組,包括:鏡筒;依次排列的多片透鏡,多片透鏡設(shè)置于鏡筒內(nèi);以及前述的遮光隔圈,遮光隔圈在鏡筒內(nèi)設(shè)置于多片透鏡中相鄰的兩片透鏡之間。
第四方面,本申請的實(shí)施例提供了一種攝像裝置,包括前述的成像鏡頭組。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江舜宇光學(xué)有限公司,未經(jīng)浙江舜宇光學(xué)有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910731054.8/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





