[發明專利]遮光隔圈及其制造方法、成像鏡頭組、攝像裝置在審
| 申請號： | 201910731054.8 | 申請日： | 2019-08-08 |
| 公開（公告）號： | CN110376664A | 公開（公告）日： | 2019-10-25 |
| 發明（設計）人： | 高健;蒯澤文;袁銀潮 | 申請（專利權）人： | 浙江舜宇光學有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/115 | 分類號： | G02B1/115;G02B1/04;G02B7/02;G03B11/04 |
| 代理公司： | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人： | 王達佐;王艷春 |
| 地址： | 315400 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 環形片體 減反射膜 隔圈 遮光 成像鏡頭組 攝像裝置 第一端 微結構 不透明材料 折射率 刻蝕 制造 申請 | ||
1.一種遮光隔圈，其特征在于，包括：
環形片體，所述環形片體由不透明材料制成，并且在所述環形片體的厚度方向上，所述環形片體具有第一端和第二端，所述第一端和所述第二端中的至少一端處設置有刻蝕出的微結構；以及
減反射膜，所述減反射膜至少設置于所述環形片體上所述微結構處，所述減反射膜的折射率N滿足N≤1.8。
2.根據權利要求1所述的遮光隔圈，其特征在于，所述微結構是刻蝕出的空隙的陣列。
3.根據權利要求1所述的遮光隔圈，其特征在于，所述減反射膜的材質包括Al、Mg、Ti、Si、Sn、Hf、Nb、Ta、Zr及Y中的至少一種元素的氧化物、氮化物、氟化物以及氮氧化物中的至少一種。
4.根據權利要求3所述的遮光隔圈，其特征在于，所述減反射膜的材質是SiO2，并且所述減反射膜的厚度為26nm。
5.根據權利要求1所述的遮光隔圈，其特征在于，對應380nm至780nm波長范圍的光，所述減反射膜的反射率R滿足R≤0.1％。
6.一種制造遮光隔圈的方法，其特征在于，包括：
對不透明材料制成的基底進行等離子刻蝕，以在所述基底的至少一個表面上形成微結構；以及
在所述微結構處沉積減反射膜，所述減反射膜的折射率N滿足N≤1.8。
7.根據權利要求6所述的制造遮光隔圈的方法，其特征在于，所述基底為環形片體，在所述環形片體的厚度方向上，所述環形片體具有第一端和第二端，在所述第一端和所述第二端中的至少一端處形成所述微結構。
8.根據權利要求6所述的制造遮光隔圈的方法，其特征在于，所述方法還包括：
在對不透明材料制成的基底進行等離子刻蝕之前，對所述基底上待形成所述微結構的位置處的表面進行磨砂處理。
9.一種成像鏡頭組，其特征在于，包括：
鏡筒；
依次排列的多片透鏡，所述多片透鏡設置于所述鏡筒內；以及
根據權利要求1至5中任一項所述的遮光隔圈，所述遮光隔圈在所述鏡筒內設置于所述多片透鏡中相鄰的兩片透鏡之間。
10.一種攝像裝置，其特征在于，包括根據權利要求9所述的成像鏡頭組。
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