[發明專利]防污性薄膜的制造方法

有效

• 申請號: 201910728264.1
• 申請日: 2019-08-08
• 公開（公告）號: CN110857338B
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 中松健一郎;二宮郁雄;芝井康博;厚母賢
• 申請（專利權）人: 夏普株式會社
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C09D5/16;C09D4/06;C09D4/02;G02B1/18
• 代理公司: 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334
• 代理人: 郝家歡

提供一種防污性薄膜的制造方法，其即使模具的轉印次數增加，也可以防止模具的白化，并且提高所獲得的防污性薄膜的防污性。防污性薄膜的制造方法包含下述工序：在模具的表面上涂布離型處理劑，將水相對于模具的涂布了離型處理劑的表面的接觸角調節為規定的范圍的工序；在基材的表面上涂布樹脂的工序；在將樹脂夾在其間的狀態下，將基材向模具的涂布了離型處理劑的表面按壓，形成樹脂層的工序；以及使樹脂層硬化，形成聚合體層的工序，樹脂以規定的比例含有：具有(甲基)丙烯酰基的規定的氟系低聚物；以及每一個分子具有1個(甲基)丙烯酰基的全氟烷基系單體，全氟烷基系單體中的氟原子濃度為規定的范圍。

技術領域

本發明涉及一種防污性薄膜的制造方法。

背景技術

針對具有防反射性的光學薄膜進行了各種研究(例如，參照專利文獻1)。特別地，已知具有納米尺寸的凹凸構造(納米構造)的光學薄膜具有優良的防反射性。根據這種凹凸構造，由于從空氣層直至基材而折射率連續地變化，因此可以使反射光顯著地減少。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2018-59047號公報

發明內容

本發明所要解決的技術問題

但是，在這種光學薄膜中，具有優良的防反射性，另一方面，由于其表面的凹凸構造，如果指紋(皮脂)等污物附著，則附著的污物容易擴大，并且，有時難以擦掉進入了凸部間的污物。另外，所附著的污物，由于其反射率與光學薄膜的反射率大不相同，因此容易識別。因此，尋求一種在表面具有納米尺寸的凹凸構造，并且相對于污物的擦拭性(例如指紋擦拭性)、即防污性優良的功能性薄膜(防污性薄膜)。

對此，本發明人研究后發現，如果在構成光學薄膜的凹凸構造的聚合體層中，作為其結構成分而配合氟系化合物，則防污性提高。

但是，本發明人進一步研究后發現，如果在形成聚合體層的凹凸構造時使用模具，則伴隨模具的轉印次數的增加，氟系化合物會在模具的表面積蓄(轉移)，模具會發生白化。并且發現，如果在這種狀態下模具的轉印次數進一步增加，則模具的離型性容易降低，其結果，所獲得的防污性薄膜的防污性容易降低。

如上所述，當前存在下述課題，即，實現一種即使模具的轉印次數增加，也可以防止模具的白化，并且提高所獲得的防污性薄膜的防污性的防污性薄膜的制造方法。但是，未發現解決上述課題的方法。例如，在上述專利文獻1中，并未記載與伴隨模具的轉印次數的增加的、模具的白化及防污性薄膜的防污性的降低相關的內容，并未解決上述課題。

本發明就是鑒于上述現狀，其目的在于，提供一種即使模具的轉印次數增加，也防止模具的白化，提高所獲得的防污性薄膜的防污性的防污性薄膜的制造方法。

解決問題的手段

本發明的一個方式是一種防污性薄膜的制造方法，該防污性薄膜具有：基材；以及聚合體層，其配置于所述基材的表面上，在表面具有將多個凸部以可見光的波長以下的間距來設置的凹凸構造，所述防污性薄膜的制造方法具有下述工序：工序(1)，在該工序中，在模具的表面上涂布離型處理劑，將水相對于所述模具的涂布了所述離型處理劑的表面的接觸角調節為90～150°；工序(2)，在該工序中，將樹脂涂布于所述基材的表面上；工序(3)，在該工序中，在將所述樹脂夾在其間的狀態下，將所述基材向所述模具的涂布了所述離型處理劑的表面按壓，形成在表面具有所述凹凸構造的樹脂層；以及工序(4)，在該工序中，使所述樹脂層硬化，形成所述聚合體層，所述樹脂以有效成分換算，含有具有(甲基)丙烯酰基的氟系低聚物2.5～12.5重量％，含有每一個分子具有1個(甲基)丙烯酰基的全氟烷基系單體2.5～9重量％，所述氟系低聚物含有全氟聚醚系低聚物及全氟烷基系低聚物之中的至少一者，所述全氟烷基系單體中的氟原子濃度是50～60重量％。

發明效果