[發明專利]防污性薄膜的制造方法有效
| 申請號： | 201910728264.1 | 申請日： | 2019-08-08 |
| 公開（公告）號： | CN110857338B | 公開（公告）日： | 2021-11-23 |
| 發明（設計）人： | 中松健一郎;二宮郁雄;芝井康博;厚母賢 | 申請（專利權）人： | 夏普株式會社 |
| 主分類號： | C08J7/04 | 分類號： | C08J7/04;C09D5/16;C09D4/06;C09D4/02;G02B1/18 |
| 代理公司： | 深圳市賽恩倍吉知識產權代理有限公司 44334 | 代理人： | 郝家歡 |
| 地址： | 日本國大*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 防污 薄膜 制造 方法 | ||
1.一種防污性薄膜的制造方法，所述防污性薄膜具有：基材；以及聚合體層，其配置于所述基材的表面上，在表面具有將多個凸部以可見光的波長以下的間距來設置的凹凸構造，
所述防污性薄膜的制造方法的特征在于，具有下述工序：
工序（1），在該工序中，在模具的表面上涂布離型處理劑，將水相對于所述模具的涂布了所述離型處理劑的表面的接觸角調節為90～150°；
工序（2），在該工序中，將樹脂涂布于所述基材的表面上；
工序（3），在該工序中，在將所述樹脂夾在其間的狀態下，將所述基材向所述模具的涂布了所述離型處理劑的表面按壓，形成在表面具有所述凹凸構造的樹脂層；以及
工序（4），在該工序中，使所述樹脂層硬化，形成所述聚合體層，
所述樹脂以有效成分換算，含有具有（甲基）丙烯酰基的氟系低聚物2.5～12.5重量%，含有每一個分子具有1個（甲基）丙烯酰基的全氟烷基系單體2.5～9重量%，
所述氟系低聚物含有全氟聚醚系低聚物及全氟烷基系低聚物之中的至少一者，
所述全氟烷基系單體中的氟原子濃度是50～60重量%。
2.根據權利要求1所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
在所述工序（1）中，相對于所述模具的涂布了所述離型處理劑的表面，照射準分子紫外線。
3.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
在所述工序（1）中在所述模具的表面上涂布的所述離型處理劑，有效成分濃度為0.0001～0.001重量%。
4.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
在所述工序（1）中在所述模具的表面上涂布的所述離型處理劑，是每1個分子具有3～25個CF2基的硅烷偶聯劑。
5.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述樹脂以有效成分換算，含有所述氟系低聚物5～10重量%。
6.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述樹脂以有效成分換算，含有所述全氟烷基系單體3～7重量%。
7.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述全氟烷基系單體中的氟原子濃度是52～60重量%。
8.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述樹脂還含有單官能酰胺單體。
9.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述聚合體層的厚度是5～20μm。
10.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述多個凸部的平均間距是100～400nm。
11.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述多個凸部的平均高度是50～600nm。
12.根據權利要求1或2所述的防污性薄膜的制造方法，其特征在于，
所述多個凸部的平均縱橫比是0.8～1.5。
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